[發明專利]正型光敏材料在審
| 申請號: | 201980057768.3 | 申請日: | 2019-09-03 |
| 公開(公告)號: | CN112654928A | 公開(公告)日: | 2021-04-13 |
| 發明(設計)人: | 劉衛宏;盧炳宏;陳春偉 | 申請(專利權)人: | 默克專利股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/039 | 分類號: | G03F7/039;G03F7/004;C07C69/84 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 姜煌 |
| 地址: | 德國達*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光敏 材料 | ||
1.一種正型光敏組合物,其包含:
a)至少一種光致產酸劑;
b)至少一種酚醛清漆聚合物;
c)至少一種丙烯酸酯聚合物,其包含具有結構(I)的組分,
其中R1至R6獨立地為-H或-CH3,A為直鏈或支鏈C2至C10亞烷基,B為C1至C12伯或仲未經取代的直鏈、支鏈、環狀或脂環族烷基,C為C1至C12伯或仲未經取代的直鏈、支鏈、環狀或脂環族烷基,D為鍵聯基團,其為直接價鍵,或直鏈或支鏈C1至C10亞烷基,Ar為經取代或未經取代的芳族基或雜芳族基,E為直鏈或支鏈C2至C10亞烷基,G為酸可裂解基團,t為0摩爾%至約40摩爾%,v為0摩爾%至約15摩爾%,w為0摩爾%至約45摩爾%,x為0摩爾%至約80摩爾%,y為約20摩爾%至約50摩爾%且z為約20摩爾%至約50摩爾%,且另外其中t、v、w、x、y及z的總和等于100摩爾%;
d)至少一種縮水甘油基羥基苯甲酸縮合物材料,其包含一種或多種具有結構(II)的化合物,
其中,
W為分子量為600或更少的有機部分,其中W與其鍵結的氧形成醚鍵,
m為1至3的整數,且
n為1至4的整數,且其他限制條件為
當m為1時,n為3或4,且
當m為2或3時,n為1至4的整數,
n’為0或1,
e)至少一種雜環硫醇化合物,其包含選自通用結構(III)、(IIIa)或(IIIb)的環結構,或其互變異構體;及
其中,所述環結構為具有4至8個原子的單環結構或具有5至20個原子的多環結構;且其中該單環結構或該多環結構包含芳族、非芳族或雜芳環,且
在所述結構(III)中,X選自由C(Rt1)(Rt2)、O、S、Se及Te組成的組;
在所述結構(IIIa)中,Y選自由C(Rt3)及N組成的組;
在所述結構(IIIb)中,Z選自由C(Rt3)及N組成的組;且
Rt1、Rt2及Rt3獨立地選自由以下各者組成的組:H、具有1至8個碳原子的經取代的烷基、具有1至8個碳原子的未經取代的烷基、具有2至8個碳原子的經取代的烯基、具有2至8個碳原子的未經取代的烯基、具有2至8個碳原子的經取代的炔基、具有2至8個碳原子的未經取代的炔基、具有6至20個碳原子的經取代的芳族基、具有3至20個碳原子的經取代的雜芳族基、具有6至20個碳原子的未經取代的芳族基及具有3至20個碳原子的未經取代的雜芳族基;
f)至少一種溶劑。
2.根據權利要求1的正型光敏組合物,其中具有結構(II)的所述縮水甘油基羥基苯甲酸縮合物材料為其中部分W為選自由脂族烴、脂族烷基醚、雙(烷基)砜及雙(烷基)酮組成的組的脂族部分的縮水甘油基羥基苯甲酸縮合物材料。
3.根據權利要求1的正型光敏組合物,其中具有結構(II)的縮水甘油基羥基苯甲酸縮合物材料為其中部分W為選自以下各者的芳族部分的縮水甘油基羥基苯甲酸縮合物材料:芳烴、多環芳烴、雙(芳基)醚、聯苯、雙(芳基)砜、雙(苯基)亞烷基、(烷基)(芳基)酮、雙(芳基)酮、雙(芳基)砜及(烷基)(芳基)砜。
4.根據權利要求1至3中任一項的正型光敏組合物,其中m為1。
5.根據權利要求1至3中任一項的正型光敏組合物,其中m為2。
6.根據權利要求1至3中任一項的正型光敏組合物,其中m為3。
7.根據權利要求1至3中任一項的正型光敏組合物,其中n為1。
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