[發明專利]靶搬運系統、靶體及靶搬運方法

在審

• 申請號: 201980057140.3
• 申請日: 2019-09-06
• 公開（公告）號: CN112640001A
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發明（設計）人: 伊藤拓
• 申請（專利權）人: 日本醫事物理股份有限公司
• 主分類號: G21K5/08
• 分類號: G21K5/08;H05H6/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍

1.靶搬運系統，其包括：

搬運管路，其供至少包含用于生成核素的材料體的靶體的搬運；

靶保持部，其保持所述靶體，并使從加速器輸出的粒子線照射于所述靶體；和

搬運機構，其利用流體將所述靶體搬運至所述靶保持部，所述流體在所述搬運管路內沿搬運方向流動并且對所述靶體進行冷卻，

對于所述搬運機構而言，在所述靶保持部中的所述粒子線的照射中，在所述搬運管路內使所述流體沿所述搬運方向流動，在所述粒子線的照射結束后，利用所述流體將所述靶體從所述搬運管路回收。

2.如權利要求1所述的靶搬運系統，其還具備冷卻機構，所述冷卻機構對基于所述搬運機構的所述靶體的搬運中使用的所述流體進行冷卻。

3.如權利要求1或2所述的靶搬運系統，其中，所述搬運機構在所述靶體的回收時使所述流體沿與所述搬運方向相反的方向流動。

4.如權利要求1所述的靶搬運系統，其中，所述靶保持部在內部具備供所述流體流動的照射管路、和留置機構，所述留置機構用于將所述靶體留在所述靶體接受所述粒子線的照射的照射位置，所述搬運管路與所述照射管路連通，

所述留置機構具備：限制部，所述限制部位于所述照射管路內且限制所述靶體的上升；和突出部，所述突出部自所述照射管路的內壁的相對的兩側各自向對側突出，

所述留置機構利用所述限制部和兩個所述突出部，在支承所述靶體的狀態下松插于所述靶保持部。

5.如權利要求4所述的靶搬運系統，其中，所述搬運機構在所述靶體向所述照射位置的搬運中及所述粒子線的照射中，使所述流體相對于所述留置機構從重力方向的下方朝向上方流動。

6.如權利要求1所述的靶搬運系統，其中，所述靶體具有圓盤形狀，所述搬運管路內的與長度方向及寬度方向正交的高度方向的最大長度比所述圓盤形狀的直徑小。

7.靶體，其在權利要求1所述的靶搬運系統中使用，所述靶體包括：

面向粒子線的照射方向的第一板部；與所述第一板部平行的第二板部；和松插于所述第一板部與所述第二板部之間的材料體，

所述第一板部與所述材料體的間隔比所述第二板部與所述材料體的間隔寬。

8.靶搬運方法，其包括以下工序：

導入工序，將所述靶體導入至供靶體搬運的管路內，所述靶體至少包含用于生成核素的材料體；

搬運工序，利用流體將導入的所述靶體搬運至該靶體接受從加速器輸出的粒子線的照射的靶保持部，所述流體在所述管路內流動并且對所述靶體進行冷卻；

流動工序，在所述粒子線對所述靶保持部中的所述靶體的照射中，使所述流體沿所述靶體的搬運方向流動；和

回收工序，在所述粒子線對所述靶保持部中的所述靶體的照射結束后，利用所述流體將所述靶體從所述管路回收。