[發明專利]液晶取向膜的制造方法、液晶取向膜和液晶表示元件在審
| 申請號: | 201980056913.6 | 申請日: | 2019-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN112602014A | 公開(公告)日: | 2021-04-02 |
| 發明(設計)人: | 鈴木加名子;飯塚祐太;后藤耕平 | 申請(專利權)人: | 日產化學株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1337 | 分類號: | G02F1/1337;C08F220/00;C08G73/10;C08L33/04;C08L79/08 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液晶 取向 制造 方法 表示 元件 | ||
1.一種多域液晶取向膜的制造方法,其特征在于,該方法依次包括如下工序:
將液晶取向劑涂布在基板上,通過干燥和燒成而形成固化膜的工序;
從傾斜方向對所述固化膜照射紫外線的第一次照射工序;以及
從與所述第一次照射工序中的照射方向不同的方向對通過所述第一次照射工序而得到的紫外線照射后的固化膜照射紫外線的第二次照射工序,
所述第一次照射工序和所述第二次照射工序中的至少一者隔著包括遮光區域和未遮光區域的掩膜來進行,
所述液晶取向劑含有溶劑和(A)具有下述式(pa-1)所示的光取向性基團和熱交聯性基團A的聚合物,
式(pa-1)中,A表示根據情況任選被選自氟、氯、氰基中的基團取代的、或者任選被碳原子數1~5的烷氧基、直鏈狀或支鏈狀的烷基殘基(其根據情況任選被1個氰基或1個以上的鹵素原子取代)取代的嘧啶-2,5-二基、吡啶-2,5-二基、2,5-硫代亞苯基、2,5-亞呋喃基、1,4-亞萘基或亞苯基、或者2,6-亞萘基或亞苯基;R1為單鍵、氧原子、-COO-或-OCO-;R2為二價芳香族基團、二價脂環式基團、二價雜環式基團或二價稠環式基團;R3為單鍵、氧原子、-COO-或-OCO-;R4為碳原子數1~40的直鏈或支鏈的烷基或者包含脂環式基團的碳原子數3~40的一價有機基團;D表示氧原子、硫原子或-NRd-,此處,Rd表示氫原子或碳原子數1~3的烷基;a為0~3的整數;*表示鍵合位置,
且所述液晶取向劑滿足如下的Z1和/或Z2:
Z1:所述(A)聚合物還具有熱交聯性基團B;
Z2:還含有(B)分子內具有2個以上熱交聯性基團B的化合物,
其中,熱交聯性基團A和熱交聯性基團B各自獨立地為選自由羧基、氨基、烷氧基甲基酰胺基、羥基甲基酰胺基、羥基、含有環氧部位的基團、氧雜環丁基、硫雜丙環基、異氰酸酯基和封端異氰酸酯基組成的組中的基團,且以熱交聯性基團A與熱交聯性基團B因熱而發生交聯反應的方式進行選擇,其中,熱交聯性基團A和熱交聯性基團B任選彼此相同。
2.根據權利要求1所述的方法,其中,在所述第一次照射工序和所述第二次照射工序中照射的紫外線中的至少一者為偏振紫外線。
3.根據權利要求1所述的方法,其中,僅所述第二次照射工序隔著所述掩膜來進行。
4.一種多域液晶取向膜,其使用權利要求1~3中任一項所述的方法來形成。
5.一種液晶表示元件,其具備權利要求4所述的多域液晶取向膜。
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