[發明專利]磁性冷卻輥

有效

• 申請號: 201980056025.4
• 申請日: 2019-08-28
• 公開（公告）號: CN112639139B
• 公開（公告）日: 2023-02-24
• 發明（設計）人: 馬赫盧夫·哈米德;馬克·安德胡貝爾;阿蘭·多比尼;洛朗·盧茨
• 申請（專利權）人: 安賽樂米塔爾公司
• 主分類號: C21D9/00
• 分類號: C21D9/00;C21D9/56;C21D9/573;F27B9/14;F27D3/02
• 代理公司: 北京允天律師事務所 11697
• 代理人: 高源

1.一種冷卻輥(1)，所述冷卻輥(1)包括軸(2)和套筒(3)，所述套筒具有直徑和沿軸向方向的長度并且限定徑向方向和周向方向，所述套筒從內到外包括：

-內筒(4)，

-多個磁體(5)，所述多個磁體(5)在所述內筒的外圍上且沿著所述內筒的長度的至少一部分設置，每個磁體由沿所述周向方向的磁體寬度、沿所述徑向方向的高度和沿所述軸向方向的長度限定，

-冷卻系統(6)，所述冷卻系統(6)圍繞所述多個磁體(5)的至少一部分，

-所述冷卻系統和所述多個磁體通過由沿所述徑向方向的間隙高度限定的間隙(7)隔開，所述間隙高度是磁體(5)與上方的所述冷卻系統(6)之間的最小距離，

-其中每個所述磁體(5)的磁體寬度滿足以下公式：

間隙高度×1.1≤磁體寬度≤間隙高度×8.6。

2.根據權利要求1所述的冷卻輥，其中，所述磁體(5)是永磁體。

3.根據權利要求1或2所述的冷卻輥，其中，所述冷卻系統(6)由金屬部件制成，所述金屬部件包括至少兩個冷卻通道(12)，冷卻劑能夠經由所述冷卻通道(12)流動。

4.根據權利要求3所述的冷卻輥，其中，所述冷卻通道(12)平行于所述冷卻輥的高度設置。

5.根據權利要求3所述的冷卻輥，其中，所述冷卻系統(6)包括用于將冷卻劑注入所述冷卻通道(12)中的裝置(13)。

6.根據權利要求5所述的冷卻輥，其中，用于注入冷卻劑的所述裝置(13)交替地設置在所述冷卻通道(12)的兩側。

7.根據權利要求1或2所述的冷卻輥，其中，所述磁體寬度滿足以下公式：間隙高度×1.4≤磁體寬度≤間隙高度×6.0。

8.根據權利要求7所述的冷卻輥，其中，所述磁體寬度滿足以下公式：間隙高度×1.6≤磁體寬度≤間隙高度×5.0。

9.根據權利要求1或2所述的冷卻輥，其中，所述多個磁體沿著整個所述內筒的長度設置。

10.根據權利要求1或2所述的冷卻輥，其中，所述冷卻系統(6)圍繞所述多個磁體(5)。

11.一種用于在根據權利要求1至8中的任一項所述的冷卻輥中對連續地移動的金屬帶材進行冷卻的方法，所述方法包括以下步驟：

-將所述帶材(15)的一部分以磁力的方式吸引到至少一個冷卻輥(1)上并使所述帶材(15)與所述至少一個冷卻輥(1)接觸。

12.根據權利要求11所述的方法，其中，使用了至少三個冷卻輥(1)并且所述帶材同時與所述至少三個冷卻輥(1)接觸。

13.根據權利要求11或12所述的方法，其中，與所述冷卻輥接觸的所述帶材具有在0.3m.s^-1與20m.s^-1之間的速度。

14.根據權利要求11或12所述的方法，其中，這種冷卻系統(6)由金屬部件制成，所述金屬部件包括至少兩個冷卻通道(12)，冷卻劑能夠經由所述冷卻通道(12)流動，所述冷卻通道(12)中的冷卻劑在相鄰的冷卻通道(12)中沿相反的方向流動。