[發明專利]光致發光鑒定裝置、系統和方法有效
| 申請號: | 201980055229.6 | 申請日: | 2019-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN112689838B | 公開(公告)日: | 2022-07-12 |
| 發明(設計)人: | 納比爾·勞安迪 | 申請(專利權)人: | 光譜系統公司 |
| 主分類號: | G06K7/10 | 分類號: | G06K7/10;G06K7/12;G06V20/80;G06V20/00;G07D7/00;G07D7/004;G07D7/0043;G07D7/12;G07D7/1205;G07D7/128;G07D7/202;G09C1/00;H04L9/32;G01N21/64 |
| 代理公司: | 上海天翔知識產權代理有限公司 31224 | 代理人: | 劉粉寶 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光致發光 鑒定 裝置 系統 方法 | ||
1.一種用于鑒定物品的系統,所述系統包括:光致發光材料,其被設置在基底上或基底中且能夠吸收來自輻射源的入射輻射,以及在去除所述輻射源后發出具有光譜特征和衰減時間的發射輻射;和
光鑒定裝置,其能夠被設置為與所述基底接觸,所述光鑒定裝置包括:
所述輻射源,其被配置為向所述光致發光材料提供所述入射輻射;和
相機,其被配置為在衰減時間內測量來自所述光致發光材料的具有光譜特征的發射輻射;
其中,與提供所述入射輻射和測量所述發射輻射有關,所述光鑒定裝置橫跨所述基底平移,同時所述光鑒定裝置被設置為與所述基底接觸;以及
其中,在所述光鑒定裝置橫跨所述基底或在所述基底上方平移后且所述輻射源沒有提供所述入射輻射時,所述光鑒定裝置相對所述基底是靜止的,且當測量所述發射輻射時,所述相機被設置在發出所述發射輻射的所述光致發光材料上方。
2.根據權利要求1所述的系統,其中所述光鑒定裝置在提供所述入射輻射時橫跨所述基底平移一次或多次。
3.根據權利要求1所述的系統,其中所述光鑒定裝置在提供所述入射輻射時是靜止的。
4.根據權利要求1所述的系統,其中所述光譜特征包括在第一波長的光譜強度和在第二波長的光譜強度,以定義測量的密碼。
5.根據權利要求4所述的系統,其中將檢測的密碼與預定的密碼比較以確定身份驗證。
6.根據權利要求4所述的系統,其中所述光譜特征包括在第三波長的光譜強度。
7.根據權利要求4所述的系統,其中所述發射輻射的第一和第二波長中至少一個在可見光光譜內。
8.根據權利要求4所述的系統,其中所述發射輻射的第一和第二波長中至少一個在非可見光光譜內。
9.根據權利要求1所述的系統,其中所述光譜特征包括光譜圖案或空間圖案。
10.根據權利要求1所述的系統,其中所述光鑒定裝置是智能手機或平板電腦。
11.根據權利要求10所述的系統,其中所述智能手機或平板電腦的相機在視頻模式下運行,以測量所述發射輻射的時間響應。
12.根據權利要求10所述的系統,其中當由所述相機檢測到的背景光或環境光的量是允許成功照射和測量所述發射輻射的背景光或環境光的量時,所述輻射源能夠被激活。
13.根據權利要求10所述的系統,其中所述相機與應用程序通信以驗證物品的真實性。
14.根據權利要求1所述的系統,其中所述光鑒定裝置進一步包括被配置為檢測所述光鑒定裝置平移的加速度計。
15.根據權利要求1所述的系統,其中所述光致發光材料包括輻射吸收和再發射材料或與輻射吸收和再發射材料組合。
16.根據權利要求1所述的系統,其中所述光致發光材料涂覆有熒光材料或被設置在纖維或板中,所述纖維或板具有在其中或其上設置的熒光材料。
17.根據權利要求1所述的系統,其中所述光譜特征包括在衰減時間內的第一時間的第一波長和第二波長的光譜強度以及在衰減時間內的第二時間的第一波長和第二波長的光譜強度。
18.根據權利要求1所述的系統,其中所述基底被設置在物品上或物品中或物品上的標簽上或物品上的標簽中。
19.根據權利要求1所述的系統,其中所述基底是聚合物或板材。
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