[發明專利]檢測分離膜元件中的缺陷的方法和用于檢測分離膜元件中的缺陷的裝置

有效

• 申請號: 201980055074.6
• 申請日: 2019-10-18
• 公開（公告）號: CN112584917B
• 公開（公告）日: 2023-02-17
• 發明（設計）人: 洪慈敏;全亨濬;申程圭;李炳洙
• 申請（專利權）人: 株式會社LG化學
• 主分類號: B01D65/10
• 分類號: B01D65/10
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 高世豪;梁笑

1.一種用于檢測分離膜元件的缺陷的方法，所述方法包括：

將所述分離膜元件布置在壓力容器內部；以及

向所述壓力容器的氣體供應單元供應氣體并利用通過所述分離膜元件的所述氣體測量所述分離膜元件的滲透率，

其中所述分離膜元件中包括的分離膜包括多孔層和設置在所述多孔層上的活性層，以及所述活性層為聚酰胺活性層；以及

所述分離膜元件為螺旋卷繞模塊，

其中通過所述用于檢測分離膜元件的缺陷的方法檢測其缺陷的所述分離膜元件包括中心管和殼體，以及

向所述壓力容器的氣體供應單元的氣體供應是在所述中心管與所述殼體之間供應，

其中向所述壓力容器的氣體供應單元的氣體供應是供應大于或等于0.2MPa且小于或等于0.6MPa的壓縮氣體，

其中，所述分離膜元件的水含量為1％至3％。

2.根據權利要求1所述的用于檢測分離膜元件的缺陷的方法，其中，在所述分離膜元件的滲透率的測量中，所述壓力容器包括氣體排放單元，所述氣體排放單元將通過所述分離膜元件的所述氣體排放到所述壓力容器外，以及

所述分離膜元件的滲透率利用排放至所述氣體排放單元的所述氣體來測量。

3.根據權利要求1所述的用于檢測分離膜元件的缺陷的方法，包括當利用通過所述分離膜元件的所述氣體測量的所述分離膜元件的滲透率為0.095L/分鐘或更大時檢測出所述分離膜元件的缺陷。

4.根據權利要求3所述的用于檢測分離膜元件的缺陷的方法，還包括在氯化鈉250g/L、0.41MPa、25℃和15％回收率的條件下評估所述分離膜元件的鹽截留率。

5.根據權利要求4所述的用于檢測分離膜元件的缺陷的方法，其中所述分離膜元件的鹽截留率的評估為當所述分離膜元件的鹽截留率為97％或更小時檢測出所述分離膜元件的缺陷。

6.根據權利要求3所述的用于檢測分離膜元件的缺陷的方法，還包括在氯化鈉250g/L、0.41MPa、25℃和15％回收率的條件下評估所述分離膜元件的通量。

7.根據權利要求6所述的用于檢測分離膜元件的缺陷的方法，其中所述分離膜元件的通量的評估為當所述分離膜元件的通量為340L/天或更大時檢測出所述分離膜元件的缺陷。

8.一種用于檢測分離膜元件的缺陷的裝置，所述裝置包括：

壓力容器，所述壓力容器包括氣體供應單元和氣體排放單元；和

測量單元，所述測量單元利用排放至所述氣體排放單元的氣體測量所述分離膜元件的滲透率，

其中所述分離膜元件中包括的分離膜包括多孔層和設置在所述多孔層上的活性層，以及所述活性層為聚酰胺活性層；以及

所述分離膜元件為螺旋卷繞模塊，

其中通過所述用于檢測分離膜元件的缺陷的裝置檢測其缺陷的所述分離膜元件包括中心管和殼體，以及

所述氣體供應單元被設置成在所述中心管與所述殼體之間供應所述氣體，

其中供應至所述氣體供應單元大于或等于0.2MPa且小于或等于0.6MPa的壓縮氣體，

其中，所述分離膜元件的水含量為1％至3％。

9.根據權利要求8所述的用于檢測分離膜元件的缺陷的裝置，其中所述氣體排放單元被設置成當通過所述分離膜元件的所述氣體從所述分離膜元件的一端排放時將所述氣體排放到所述壓力容器外。