[發(fā)明專利]82

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980054271.6
• 申請(qǐng)日: 2019-08-22
• 公開（公告）號(hào): CN112867442A
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅伯特·威廉·里多克;艾蒂安·萊福特;保羅·唐納利;里卡多·桑托佩特羅;托馬斯·艾倫·摩爾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 朱布蘭特德拉西梅公司
• 主分類號(hào): A61B6/00
• 分類號(hào): A61B6/00;A61N5/00;G21G1/00;G21G4/00;G21G4/04;G21G4/08;F04B49/00
• 代理公司: 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 車文;趙曉祎

公開了提供若干優(yōu)點(diǎn)的銣洗脫系統(tǒng)的新配置。本公開的銣洗脫系統(tǒng)包括組件，該組件包括⁸²Sr/⁸²Rb發(fā)生器、活性檢測(cè)器、廢物容器、泵、傳感器、管道回路、至少一個(gè)閥，其中廢物容器位于組件的下部。更具體地，廢物容器隔室的頂表面或者在發(fā)生器隔室的頂表面之下，或者廢物容器與發(fā)生器在相同的高度處或者在泵之下。

相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用

本申請(qǐng)要求享有2018年8月22日提交的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)62/721,033的優(yōu)先權(quán)權(quán)益，其全部?jī)?nèi)容通過引用合并于此。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開總體上涉及核醫(yī)學(xué)，并且特別涉及⁸²Sr/⁸²Rb洗脫系統(tǒng)。

背景技術(shù)

本文公開的主題涉及具有短半衰期的放射性藥物物質(zhì)，例如銣(⁸²Rb)。銣(⁸²Rb)用作正電子發(fā)射斷層掃描(PET)示蹤劑，用于無創(chuàng)測(cè)定心肌灌注(血流)。

典型的⁸²Sr/⁸²Rb洗脫系統(tǒng)包括無菌鹽溶液(例如0.9％氯化鈉注射液)儲(chǔ)器、一個(gè)或多個(gè)泵以從該儲(chǔ)器中抽出無菌鹽溶液、在溶液中產(chǎn)生放射性同位素的源、放射性檢測(cè)器以測(cè)量不同同位素的活性、劑量校準(zhǔn)器、廢物容器、輸液管組件組、一個(gè)或多個(gè)傳感器、計(jì)算機(jī)以及用于移動(dòng)洗脫系統(tǒng)的平臺(tái)上的屏蔽罩。在這種系統(tǒng)的操作過程中，泵將鹽溶液從儲(chǔ)器中移出并通過發(fā)生器，以洗脫以⁸²RbCl形式洗脫的⁸²Rb，并調(diào)節(jié)無菌鹽溶液到旁路的流量。然后，將離開發(fā)生器的放射性溶液通過患者出口輸注到要診斷的患者中。如本領(lǐng)域技術(shù)人員所知，⁸²Rb是由⁸²Sr的放射性衰變產(chǎn)生的，因此在任何給定時(shí)間⁸²Rb的產(chǎn)生速率是發(fā)生器中剩余⁸²Sr活性的函數(shù)。⁸²Rb的產(chǎn)生速率在發(fā)生器的整個(gè)使用壽命中呈指數(shù)下降，與⁸²Sr的半衰期直接相關(guān)。

洗脫系統(tǒng)中的各種屏蔽和非屏蔽部件在提供所需劑量、確保安全和易于清潔環(huán)境方面發(fā)揮著作用。像和的所有已知的⁸²Sr/⁸²Rb發(fā)生器系統(tǒng)具有廢物容器，其在它們各自的結(jié)構(gòu)的頂部上，并且在相對(duì)于發(fā)生器和/或泵更高的高度處。本發(fā)明人已經(jīng)確定了洗脫系統(tǒng)的替代構(gòu)造，其提供了幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容

本公開的目的是提供銣洗脫系統(tǒng)的新構(gòu)造，其中廢物容器位于包含系統(tǒng)的各種部件的組件的下部，例如在比泵低的高度處、與發(fā)生器的高度相同、或位于容納廢物容器的隔室的頂表面低于容納發(fā)生器的隔室的頂表面的高度的高度處。本公開的另一個(gè)目的是提供適于銣洗脫系統(tǒng)的這些新構(gòu)造的安全裝置。

本公開的另一個(gè)目的是提供用于制造銣洗脫系統(tǒng)的所述新構(gòu)造的方法。

本公開涉及以下任何一項(xiàng)：

項(xiàng)1.銣洗脫系統(tǒng)，其包括組件，所述組件包括⁸²Sr/⁸²Rb發(fā)生器、活性檢測(cè)器、廢物容器、泵、傳感器、管道回路和至少一個(gè)閥；其中：

-所述組件具有下部和上部，并且

-所述廢物容器位于所述組件的下部。

項(xiàng)2.項(xiàng)1的銣洗脫系統(tǒng)，其中所述下部由所述組件的下部三分之二組成。

項(xiàng)3.項(xiàng)2的銣洗脫系統(tǒng)，其中所述下部由所述組件的下部一半組成。

項(xiàng)4.項(xiàng)1、2或3中任一項(xiàng)所述的銣洗脫系統(tǒng)，其中：

-所述廢物容器被封閉在具有頂表面的廢物隔室中，所述廢物隔室的頂表面在所述組件內(nèi)處于第一高度。