[發(fā)明專利]框架一體型掩模的制造方法及框架

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980053640.X
• 申請日: 2019-08-06
• 公開（公告）號: CN112639156B
• 公開（公告）日: 2023-04-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李裕進
• 申請（專利權(quán)）人: 悟勞茂材料公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23F1/02;B23K26/21;C09J7/20;C09J191/06;H10K71/00;H10K71/16;H01L21/02
• 代理公司: 北京鴻元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327
• 代理人: 姜虎;陳英俊

本發(fā)明涉及框架一體型掩模的制造方法。本發(fā)明涉及的框架一體型掩模的制造方法，其將至少一個掩模與用于支撐掩模的框架形成為一體，其中，該方法包括以下步驟：(a)提供具有至少一個掩模單元區(qū)域的框架；(b)提供掩模；(c)將掩模對應(yīng)至框架的掩模單元區(qū)域；以及(d)向掩模的焊接部照射激光并將掩模粘合到框架上，多個吸附孔形成在與具有掩模單元區(qū)域的框架角部相隔預(yù)定距離的部分，在步驟(c)中，通過多個吸附孔向接觸到框架上的掩模施加吸附力以將掩模緊貼到框架上。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及框架一體型掩模的制造方法及框架。更具體地，可以使掩模不發(fā)生變形且可以穩(wěn)定地得到支撐并移動，而且將掩模粘合到框架時能夠改善掩模與框架的粘合性，且使各個掩模之間的對準(align)精確的框架一體型掩模的制造方法及框架。

背景技術(shù)

作為OLED(有機發(fā)光二極管)制造工藝中形成像素的技術(shù)，主要使用FMM(FineMetal?Mask，精細金屬掩模)方法，該方法將薄膜形式的金屬掩模(Shadow?Mask，陰影掩模)緊貼于基板并且在所需位置上沉積有機物。

在現(xiàn)有的OLED制造工藝中，將掩模制造成條狀、板狀等后，將掩模焊接固定到OLED像素沉積框架并使用。一個掩模上可以具有多個與一個顯示器對應(yīng)的單元。另外，為了制造大面積OLED，可將多個掩模固定于OLED像素沉積框架，在固定于框架的過程中，拉伸各個掩模，以使其變得平坦。調(diào)節(jié)拉伸力以使掩模的整體部分變得平坦是非常困難的作業(yè)。特別是，為了使各個單元全部變得平坦，同時對準尺寸僅為數(shù)μm至數(shù)十μm的掩模圖案，需要微調(diào)施加到掩模各側(cè)的拉伸力并且實時確認對準狀態(tài)的高度作業(yè)要求。

盡管如此，在將多個掩模固定于一個框架的過程中，仍然存在掩模之間以及掩模單元之間對準不好的問題。另外，在將掩模焊接固定于框架的過程中，掩模膜的厚度過薄且面積大，因此存在掩模因荷重而下垂或者扭曲的問題；由于焊接過程中焊接部分產(chǎn)生的皺紋、毛刺(burr)等導致掩模單元的對準錯位的問題等。

在超高清的OLED中，現(xiàn)有的QHD畫質(zhì)為500-600PPI(pixel?per?inch，每英寸像素)，像素的尺寸達到約30-50μm，而4K?UHD、8K?UHD高清具有比之更高的-860PPI，-1600PPI等的分辨率。如此，考慮到超高清的OLED的像素尺寸，需要將各單元之間的對準誤差縮減為數(shù)μm左右，超出這一誤差將導致產(chǎn)品的不良，所以收率可能極低。因此，需要開發(fā)能夠防止掩模的下垂或者扭曲等變形并且使對準精確的技術(shù)，以及將掩模固定于框架的技術(shù)等。

發(fā)明內(nèi)容

技術(shù)問題

因此，本發(fā)明是為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)中的問題而提出的，將掩模粘合到框架上時能夠防止掩模發(fā)生變形且改善掩模與框架的粘合性的框架一體型掩模的制造方法及框架。

此外，本發(fā)明的目的在于提供一種掩模與框架可構(gòu)成一體型結(jié)構(gòu)的框架一體型掩模的制造方法。

此外，本發(fā)明的目的在于提供一種能夠防止掩模下垂或扭曲等的變形且準確地進行對準的框架一體型掩模的制造方法。

此外，本發(fā)明的目的在于提供一種明顯縮短制造時間且使收率顯著提高的框架一體型掩模的制造方法。

技術(shù)方案

本發(fā)明的上述目的通過一種框架一體型掩模的制造方法達成，該方法將至少一個掩模與用于支撐掩模的框架形成為一體，具體包括以下步驟：(a)提供具有至少一個掩模單元區(qū)域的框架；(b)提供掩模；(c)將掩模對應(yīng)至框架的掩模單元區(qū)域；以及(d)向掩模的焊接部照射激光并將掩模粘合到框架上，多個吸附孔形成在與具有掩模單元區(qū)域的框架角部相隔預(yù)定距離的部分，在步驟(c)中，通過多個吸附孔向接觸到框架上的掩模施加吸附力以將掩模緊貼到框架上。