[發明專利]用于脫鹽裝置的計算機化控制系統

有效

• 申請號: 201980053563.8
• 申請日: 2019-06-06
• 公開（公告）號: CN112672980B
• 公開（公告）日: 2023-06-13
• 發明（設計）人: J·H·克勞奇
• 申請（專利權）人: 英國石油勘探運作有限公司
• 主分類號: G06F13/00
• 分類號: G06F13/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 鄒龍輝;王麗輝

1.一種控制系統，其被配置成控制脫鹽裝置內的一個或多個反滲透(RO)陣列、一個或多個納濾(NF)陣列、混合系統或其組合的操作，其中所述控制系統包括：

控制面板(CP)；

多個調節控制器(RC)；和

監控控制器(SC)，其中所述SC與所述CP且與所述多個RC中的每個信號通信，其中所述SC被配置成：從所述CP接收用戶輸入，并從所述多個RC接收關于來自所述脫鹽裝置內的多個傳感器的數據的輸入，

其中所述多個RC中的每個與所述多個傳感器信號通信，其中所述多個RC被配置成：從所述多個傳感器中的一個或多個接收數據，向所述SC提供輸出并從所述SC接收許可，并且響應來自所述SC的接收到的許可來指示所述脫鹽裝置的多個設備中的一個或多個，

其中所述SC被配置成：監測關于從所述多個RC接收的數據的輸入的趨勢和/或從所述多個RC接收的數據預測結果，并基于所監測的趨勢、來自所述CP的用戶輸入或其組合來確定每個所述RC的所述許可，并且

其中所述多個設備包括多個閥和泵，其中所述多個閥和泵包括一個或多個閥，所述閥配置成將來自水入口管線的給水的至少一部分、在產出水(PW)混合管線中的產出水(PW)的至少一部分或者二者與來自所述一個或多個RO陣列的RO滲透物饋送管線的RO滲透物、來自所述一個或多個納濾(NF)陣列的NF滲透物饋送管線的NF滲透物或者二者選擇性組合以生成具有在操作包絡內的成分的注入水。

2.根據權利要求1所述的控制系統，其中所述多個傳感器選自：

離子濃度傳感器，其被配置成測量所述脫鹽裝置的各種流動管線中的電導率、鹽度、溶解離子的總濃度和/或各個離子的濃度(Ci)中的至少一種；溫度傳感器，其被配置成測量在所述脫鹽裝置內的各種流動管線中的溫度；壓力傳感器，其被配置成測量在所述脫鹽裝置內的各種流動管線中的壓力；流率傳感器，其被配置成測量在所述脫鹽裝置內的各種流動管線的流率；或其組合。

3.根據權利要求2所述的控制系統，其中所述各種流動管線包括選自如下流動管線中的一個或多個：RO陣列饋送管線、NF陣列饋送管線、RO滲透物管線、NF滲透物管線、RO濃縮物管線、NF濃縮物管線、組合的RO/NF滲透物管線、混合低鹽度水流管線、RO陣列滲透物傾倒管線、NF陣列滲透物傾倒管線、組合的RO/NF滲透物傾倒管線、離子濃縮物饋送管線、給水旁通管線、產出水(PW)混合管線或其組合。

4.根據權利要求3所述的控制系統，其中所述傳感器被配置成向所述RC提供數據，其中所述RC向所述SC提供其輸出，和/或其中所述SC監測選自如下中的一個或多個操作參數的趨勢：一個或多個RO陣列的RO膜、一個或多個NF陣列的NF膜或者二者的結垢程度；至一個或多個RO陣列、一個或多個NF陣列或者二者的饋送壓力；至一個或多個RO陣列、一個或多個NF陣列或者二者的饋送壓力的變化速率；至一個或多個RO陣列、一個或多個NF陣列或者二者的饋送流率；來自一個或多個RO陣列、一個或多個NF陣列或者二者的濃縮物的壓力；來自一個或多個RO陣列、一個或多個NF陣列或者二者的滲透物的壓力；一個或多個RO陣列、一個或多個NF陣列或者二者上的壓差；來自一個或多個RO陣列、一個或多個NF陣列或者二者的滲透物的電導率；來自一個或多個RO陣列、一個或多個NF陣列或者二者的滲透物的總溶解固體，即TDS；來自一個或多個RO陣列、一個或多個NF陣列或者二者的滲透物的溫度；來自一個或多個RO陣列、一個或多個NF陣列或者二者的滲透物流率；來自一個或多個RO陣列、一個或多個NF陣列或者二者的濃縮物流率；來自一個或多個RO陣列、一個或多個NF陣列或者二者的采收率；給水旁通流的流率、鹽度、電導率和/或TDS、產出水(PW)混合流的流率、鹽度、電導率和/或TDS、所述混合低鹽度水流的流率、鹽度、電導率和/或TDS；或其組合。