[發明專利]使用圖像品質度量的量測數據校正

在審

• 申請號: 201980053080.8
• 申請日: 2019-08-14
• 公開（公告）號: CN112689801A
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發明（設計）人: 王富明;S·洪舍;方偉
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;胡良均

1.一種用于校正圖案化過程的量測數據的方法，所述方法包括：

獲得(i)經歷所述圖案化過程的襯底的量測數據、以及(ii)量化所述襯底的所述量測數據的品質的圖像品質度量；

經由計算系統，建立所述圖像品質度量與所述量測數據之間的相關性；以及

經由所述計算系統，基于所述圖像品質度量與所述量測數據之間的所述相關性來確定對所述量測數據的校正。

2.根據權利要求1所述的方法，其中確定所述校正包括：基于校正模型來確定所述量測數據的校正值，其中所述量測數據經由量測工具被獲得。

3.根據權利要求2所述的方法，其中所述校正值基于所述圖像品質度量與所述量測數據之間的所述相關性的斜率、以及跨所述襯底的所述圖像品質度量的最大值與所述襯底上的感興趣點處的所述圖像品質度量的值之間的差被確定。

4.根據權利要求1所述的方法，其中所述圖像品質度量是經由所述量測工具捕獲的所述襯底的圖像的聚焦指數。

5.根據權利要求4所述的方法，其中所述聚焦指數基于局部相位相干映射圖被確定，所述局部相位相干映射圖揭示了所述襯底上的特征位置附近的、尺度空間中的相鄰小波系數之間的相位關系。

6.根據權利要求4所述的方法，其中所述聚焦指數基于從所述圖像選擇的樣本被確定，所述樣本與所述圖像上的其他位置相比具有相對較高的梯度。

7.根據權利要求6所述的方法，其中所述樣本是所述圖像的與所述圖像的其余區域相比具有相對高的梯度的區域。

8.根據權利要求1所述的方法，其中所述圖像品質度量與所述圖案化過程中被使用的劑量的變化無關。

9.根據權利要求1所述的方法，其中所述量測數據包括經印刷的襯底的圖像、或所述圖案化過程的參數。

10.根據權利要求1所述的方法，其中所述圖案化過程的參數是臨界尺寸、邊緣放置誤差或重疊。

11.根據權利要求1所述的方法，還包括：基于被應用于所述量測數據的所述校正來生成所述圖案化過程的參數的映射圖。

12.根據權利要求11所述的方法，其中所述映射圖是劑量映射圖、聚焦映射圖、臨界尺寸(CD)映射圖、重疊圖或邊緣放置誤差映射圖。

13.根據權利要求1所述的方法，其中所述量測數據是掃描電子顯微鏡圖像或電子束圖像。

14.根據權利要求1所述的方法，還包括：基于所述圖像品質度量與所述量測數據之間的所述相關性來訓練校正模型，其中所述校正模型被配置成確定對在所述圖案化過程期間被收集到的量測數據的實時校正。

15.一種包括非暫時性計算機可讀介質的計算機程序產品，所述非暫時性計算機可讀介質上記錄有指令，所述指令在被計算機執行時實施根據權利要求1所述的方法。