[發明專利]預備空間光調制器區段以解決場不均勻性在審
| 申請號： | 201980052865.3 | 申請日： | 2019-07-02 |
| 公開（公告）號： | CN112567297A | 公開（公告）日： | 2021-03-26 |
| 發明（設計）人： | 約瑟夫·R·約翰遜;托馬斯·L·萊蒂格;克里斯多弗·丹尼斯·本徹 | 申請（專利權）人： | 應用材料公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金國;趙靜 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 預備 空間 調制器 區段 解決 不均勻 | ||
1.一種用于使用數字微鏡裝置圖案化基板的方法，其中所述數字微鏡裝置包括排列成復數個列和復數個行的微鏡的陣列，所述方法包括以下步驟：
使用所述數字微鏡裝置掃描所述基板；
評估所述圖案化基板的均勻性；
識別所述圖案化基板的不均勻區域；
指定微鏡的所述復數個列的子集以用于衰減；
關閉微鏡的所述復數個列的所指定的所述子集；和
使用所述數字微鏡裝置掃描所述基板。
2.如權利要求1所述的方法，進一步包括以下步驟：
在關閉微鏡的所述復數個列的所指定的所述子集之后，
指定微鏡的所述復數個行的子集以用于衰減；和
關閉微鏡的所述復數個行的所指定的所述子集。
3.如權利要求1所述的方法，其中：
所述識別所述圖案化基板的所述不均勻區域的步驟包括以下步驟：定位所述圖案化基板與期望的圖案之間的差異區域；并且
所述指定微鏡的所述復數個列的子集以用于衰減的步驟包括以下步驟：選擇對應于所述圖案化基板的所述不均勻區域的所述復數個列的所述子集。
4.如權利要求1所述的方法，其中使用所述數字微鏡裝置掃描所述基板的步驟包括以下步驟：
微鏡的所述陣列對于光束的第一曝光；
在所述基板的位置中距離W的移動；和
微鏡的所述陣列對于所述光束的第二曝光。
5.如權利要求4所述的方法，其中微鏡的所述復數個列的所述子集中的列的數量等于所述距離W中的微鏡的列的數量下舍至最接近的整數，并且通過將所述數字微鏡裝置的列的總數量除以所述數字微鏡裝置的單一掃描中的曝光的總數量來確定距離W的所述移動。
6.一種用于使用數字微鏡裝置圖案化基板的方法，其中所述數字微鏡裝置包括排列成復數個列和復數個行的微鏡的陣列，所述方法包括以下步驟：
使用所述數字微鏡裝置掃描所述基板，其中在所述掃描期間關閉所述數字微鏡裝置的所述復數個列的子集；
評估所述圖案化基板的均勻性；
識別所述圖案化基板的不均勻區域；
指定微鏡的所述復數個列的子集以用于輔助；
開啟微鏡的所述復數個列的所指定的所述子集；和
使用所述數字微鏡裝置掃描所述基板。
7.如權利要求6所述的方法，其中微鏡的所述復數個列的所指定用于輔助的所述子集包含的行少于所述復數個列的所述子集中的所有行。
8.如權利要求6所述的方法，其中：
所述識別所述圖案化基板的所述不均勻區域的步驟包括以下步驟：定位所述圖案化基板與期望的圖案之間的差異區域；并且
所述指定微鏡的所述復數個列的子集以用于輔助的步驟包括以下步驟：選擇對應于所述圖案化基板的所述不均勻區域的所述復數個列的所述子集。
9.如權利要求6所述的方法，其中使用所述數字微鏡裝置掃描所述基板的步驟包括以下步驟：
微鏡的所述陣列對于光束的第一曝光；
在所述基板的位置中距離W的位移；和
微鏡的所述陣列對于光束的第二曝光。
10.如權利要求9所述的方法，其中微鏡的所述復數個列的所述子集中的列的數量等于所述距離W中的微鏡的列的數量下舍至最接近的整數，并且通過將所述數字微鏡裝置的列的總數量除以所述數字微鏡裝置的單一掃描中的曝光的總數量來確定距離W的所述位移。
11.一種用于圖案化基板的數字微鏡裝置，包括：
微鏡的陣列，所述微鏡的陣列排列成微鏡的復數個列和復數個行，其中某個數量的微鏡的所述復數個列和復數個行經配置以作為單元被啟用或停用；其中所述數字微鏡裝置與編程裝置通信，所述編程裝置經配置以：
識別所述圖案化基板的不均勻區域；和
指定所述數量的微鏡的所述復數個列和復數個行的子集以作為單元被啟用或停用。
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