[發(fā)明專利]用于蒸汽注入和蒸汽阻止的噴嘴在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201980052648.4 | 申請日： | 2019-08-12 |
| 公開（公告）號： | CN112543840A | 公開（公告）日： | 2021-03-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 朱達(dá) | 申請（專利權(quán)）人： | RGL油藏管理公司 |
| 主分類號： | E21B43/12 | 分類號： | E21B43/12;B05B1/02;E21B43/24 |
| 代理公司： | 北京三聚陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250 | 代理人： | 周銳 |
| 地址： | 加拿大*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 蒸汽 注入 阻止 噴嘴 | ||
1.用于控制流入和/或流出管道的噴嘴，所述管道沿其長度具有至少一個端口，所述噴嘴適于位于所述管道的外部并且與所述至少一個端口中的一個端口流體連通，所述噴嘴包括：
-具有第一開口、第二開口的主體，以及在所述第一開口和所述第二開口之間延伸的流體輸送通道；
-所述第一開口具有直徑d1，并且所述第二開口具有直徑d4；
-其中，在從所述第一開口延伸到所述第二開口的第一方向上，所述通道包括：
-鄰近所述第一開口并在所述第一開口下游的會聚區(qū)域，所述會聚區(qū)域具有在所述第一方向上延伸的減小的橫截面積；
-在所述會聚區(qū)域下游的喉部，所述喉部具有直徑d2；
-在所述喉部下游的第一發(fā)散區(qū)域，所述第一發(fā)散區(qū)域具有在所述第一方向上延伸的增加的橫截面積；
-在所述第一發(fā)散區(qū)域下游的大體恒定的橫截面積的區(qū)域，所述大體恒定的橫截面積的區(qū)域具有直徑d3；
-在所述大體恒定的橫截面積的區(qū)域的下游的第二發(fā)散區(qū)域，所述第二發(fā)散區(qū)域鄰近所述第二開口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴，其中，所述直徑d1、所述直徑d2、所述直徑d3和所述直徑d4具有關(guān)系d2d3d1d4。
3.用于控制流體流入或流出地下儲層的設(shè)備，所述設(shè)備包括：
-管道，沿其長度具有至少一個端口；
-至少一個噴嘴，適于位于所述管道的外部并且與所述至少一個端口中的一個端口流體連通；以及，
-至少一個保持器，用于將所述至少一個噴嘴保持在所述管道上；
-其中，所述噴嘴包括：
-具有第一開口、第二開口的主體，以及在所述第一開口和所述第二開口之間延伸的流體輸送通道；
-所述第一開口具有直徑d1，并且所述第二開口具有直徑d4；
-其中，在從所述第一開口延伸到所述第二開口的第一方向上，所述通道包括：
-鄰近所述第一開口并在所述第一開口下游的會聚區(qū)域，所述會聚區(qū)域具有在所述第一方向上延伸的減小的橫截面積；
-在所述會聚區(qū)域下游的喉部，所述喉部具有直徑d2；
-在所述喉部下游的第一發(fā)散區(qū)域，所述第一發(fā)散區(qū)域具有在所述第一方向上延伸的增加的橫截面積；
-在所述第一發(fā)散區(qū)域下游的大體恒定的橫截面積的區(qū)域，所述大體恒定的橫截面積的區(qū)域具有直徑d3；
-在所述大體恒定的橫截面積的區(qū)域的下游的第二發(fā)散區(qū)域，所述第二發(fā)散區(qū)域鄰近所述第二開口。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述噴嘴的所述直徑d1、所述直徑d2、所述直徑d3和所述直徑d4具有關(guān)系d2d3d1d4。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的設(shè)備，還包括在所述管道上方的篩網(wǎng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中，所述保持器將所述篩網(wǎng)的至少一部分保持在所述管道上。
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