[發明專利]生產甲醇的方法在審
| 申請號: | 201980052428.1 | 申請日: | 2019-08-05 |
| 公開(公告)號: | CN112533890A | 公開(公告)日: | 2021-03-19 |
| 發明(設計)人: | 斯里坎特·瓦桑特·巴德甘迪;巴拉蘇布拉馬尼揚·賽斯拉曼;維諾德·??ㄌm·奈爾 | 申請(專利權)人: | 沙特基礎全球技術有限公司 |
| 主分類號: | C07C29/151 | 分類號: | C07C29/151;C07C31/04;C01B3/24 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 劉明海;胡彬 |
| 地址: | 荷蘭貝亨*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 生產 甲醇 方法 | ||
1.一種生產甲醇的方法,所述方法包括:
使進料烴與包含70至99.5重量%氧氣的氧化劑燃燒,以產生熱量并產生溫度為1200至1800℃的加熱的氣流,其中所述加熱的氣流包含二氧化碳和水;
利用來自加熱的氣流的熱量將天然氣加熱到足以重整天然氣并產生合成氣的溫度,其中天然氣的加熱同時將加熱的氣流冷卻以形成包含二氧化碳和水的冷卻的氣流;和
在足以產生甲醇的反應條件下使合成氣與至少一些來自冷卻的氣流的二氧化碳反應。
2.根據權利要求1所述的方法,進一步包括:在空氣分離單元中分離空氣,以產生氧化劑。
3.根據權利要求1和2中任一項所述的方法,其中所述空氣分離單元包括選自以下構成的列表:低溫蒸餾單元、變壓吸附/膜分離單元及其組合。
4.根據權利要求3所述的方法,進一步包括:利用包含來自空氣分離單元的氮氣的原料生產氨和/或尿素。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法,進一步包括:將冷卻的氣流中的水與二氧化碳分離,并在使合成氣反應的步驟中使用分離出的二氧化碳。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的方法,進一步包括:將甲烷料流分離成第一甲烷料流和第二甲烷料流;和
使第一甲烷料流流入燃燒器,其中所述第一甲烷料流包括與氧化劑燃燒的進料烴。
7.根據權利要求6所述的方法,進一步包括:
使加熱的氣流流入重整器;和
使第二甲烷料流流入重整器,其中所述第二甲烷料流包括被加熱的天然氣。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的方法,其中所述氧化劑進一步包含1至30重量%的二氧化碳和0.1至5重量%的氮氣。
9.根據權利要求1至8中任一項所述的方法,其中所述燃燒使得95至100重量%的進料烴被氧化。
10.根據權利要求1至9中任一項所述的方法,其中所述冷卻的氣流包含55至65重量%的二氧化碳、35至45重量%的水、0.1至3重量%的氮氣。
11.根據權利要求1至10中任一項所述的方法,其中將來自冷卻的氣流的一部分二氧化碳用于氨和/或尿素生產過程中。
12.根據權利要求1至11中任一項所述的方法,其中將來自冷卻的氣流的一部分二氧化碳在進料烴的燃燒中用作稀釋劑。
13.根據權利要求12所述的方法,其中改變從冷卻的氣流至進料烴燃燒的二氧化碳的流量,以控制燃燒的火焰溫度。
14.根據權利要求13所述的方法,其中燃燒的火焰溫度在1500至3000℃的范圍內。
15.根據權利要求1至13中任一項所述的方法,其中天然氣向甲醇的轉化率在70%至95%的范圍內。
16.根據權利要求1至15中任一項所述的方法,其中天然氣的重整包括使天然氣與水反應。
17.一種生產甲醇的方法,所述方法包括:
使第一甲烷料流與包含70至99.5重量%氧氣的氧化劑燃燒,以產生熱量并產生溫度為1200至1800℃的加熱的氣流,其中所述加熱的氣流包含二氧化碳和水;
利用來自加熱的氣流的熱量將第二甲烷料流加熱到足以重整第二甲烷料流并產生合成氣的溫度,其中第二甲烷料流的加熱同時將加熱的氣流冷卻以形成包含二氧化碳和水的冷卻的氣流;和
在足以產生甲醇的反應條件下使合成氣與至少一些來自冷卻的氣流的二氧化碳反應。
18.一種生產甲醇的方法,所述方法包括:
將甲烷料流分離成第一甲烷料流和第二甲烷料流;
使第一甲烷料流流入燃燒器;
在空氣分離單元中分離空氣以產生包含70至99.5重量%的氧氣、1至30重量%的二氧化碳和0.1至5重量%的氮氣的氧化劑;
使所述氧化劑流入燃燒器;
使第一甲烷料流與氧化劑燃燒,以產生熱量并產生溫度為1200至1800℃的加熱的氣流,其中所述加熱的氣流包含二氧化碳和水;
使加熱的氣流流入重整器;
使第二甲烷料流流入重整器;
利用來自加熱的氣流的熱量將第二甲烷料流加熱到足以重整第二甲烷料流并產生合成氣的溫度,其中第二甲烷料流的加熱同時將加熱的氣流冷卻以形成包含二氧化碳的冷卻的氣流;
使所述合成氣流入甲醇合成反應器;
使冷卻的氣流中的至少一些二氧化碳流入甲醇合成反應器中;和
在甲醇合成反應器中在足以產生甲醇的反應條件下使合成氣和冷卻的氣流中的至少一些二氧化碳反應。
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