[發(fā)明專利]用于生產(chǎn)放射性同位素的靶輻照系統(tǒng)

在審

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• 申請日: 2019-07-15
• 公開（公告）號: CN112534517A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發(fā)明（設計）人: B.D.費希爾;T.G.昂德沃特
• 申請（專利權）人: BWXT同位素技術集團有限公司
• 主分類號: G21C19/00
• 分類號: G21C19/00;G21C19/32
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王增強

1.一種用于輻照在裂變反應堆的容器貫穿件中的放射性同位素靶的靶輻照系統(tǒng)，包括：

輻照的靶去除系統(tǒng)，包括：主體，該主體限定中心孔；升降器，該升降器被構造為選擇性地接收在中心孔內(nèi)；以及對接表面，該對接表面被構造為選擇性地將輻照的靶去除系統(tǒng)安置成與容器貫穿件流體連通；和

靶筒，包括主體，該主體限定了靶孔，該靶孔被構造為可滑動地接收在其中的放射性同位素靶；以及帽，該帽被構造為附接到該靶筒的主體，從而為該靶孔提供防水密封，

其中，升降器被構造為接收在其上的靶筒，升降器在當輻照放射性同位素靶時下降到反應堆的容器貫穿件中，并且輻照的靶去除系統(tǒng)在當與容器貫穿件流體連通時形成反應堆的壓力邊界的一部分。

2.根據(jù)權利要求1所述的靶輻照系統(tǒng)，其中，裂變反應堆是重水慢化裂變反應堆，并且所述容器貫穿件是調(diào)節(jié)器端口。

3.根據(jù)權利要求1所述的靶輻照系統(tǒng)，其中，輻照的靶去除系統(tǒng)還包括絞盤和滑輪組件，該絞盤和滑輪組件通過纜線連接到所述升降器。

4.根據(jù)權利要求1所述的靶輻照系統(tǒng)，其中，輻照的靶去除系統(tǒng)還包括布置在所述主體的底端處的閘門閥，并且所述閘門閥的底表面限定所輻照的靶去除系統(tǒng)的對接表面。

5.根據(jù)權利要求1所述的靶輻照系統(tǒng)，其中，升降器還包括至少一個支撐平臺和從其向上延伸的一對相對的立管，其中，所述靶筒可滑動地接收在該一對相對的立管之間，并布置在支撐平臺上。

6.根據(jù)權利要求5所述的靶輻照系統(tǒng)，其中，至少一個支撐平臺還包括第一支撐平臺和第二支撐平臺，并且該一對相對的立管連接第一支撐平臺和第二支撐平臺。

7.根據(jù)權利要求1所述的靶輻照系統(tǒng)，還包括調(diào)節(jié)器端口對接基座，該調(diào)節(jié)器端口對接基座包括主體，該主體限定與所述容器貫穿件流體連通的中心孔；以及對接表面，該對接表面構造成選擇性地固定至輻照的靶去除系統(tǒng)的對接表面，其中，調(diào)節(jié)器端口對接基座形成反應堆的壓力邊界的一部分。

8.根據(jù)權利要求7所述的靶輻照系統(tǒng)，其中，所述調(diào)節(jié)器端口對接基座還包括布置在所述調(diào)節(jié)器端口對接基座的主體的頂端處的閘門閥，并且所述閘門閥的頂端限定所述調(diào)節(jié)器端口對接基座的對接表面。

9.根據(jù)權利要求8所述的靶輻照系統(tǒng)，其中，所述調(diào)節(jié)器端口對接基座還包括附著至所述容器貫穿件的安裝凸緣。

10.根據(jù)權利要求1所述的靶輻照系統(tǒng)，其中，所述升降器在輻照的靶去除系統(tǒng)的中心孔內(nèi)的第一位置與所述裂變反應堆內(nèi)的第二位置之間是可移動的，以使所述升降器浸沒在裂變反應堆的慢化劑流體中。

11.根據(jù)權利要求10所述的靶輻照系統(tǒng)，其中，所述裂變反應堆的容器貫穿件是調(diào)節(jié)器端口。

12.一種用于輻照在裂變反應堆的容器貫穿件中的放射性同位素靶的靶輻照系統(tǒng)，包括：

輻照的靶去除系統(tǒng)，包括主體，該主體限定中心孔；升降器，該升降器被構造為選擇性地接收在中心孔內(nèi)；以及對接表面，該對接表面被構造為選擇性地將輻照的靶去除系統(tǒng)安置為與容器貫穿件流體連通；

其中所述升降器被構造為接收在其上的放射性同位素靶，所述升降器在當輻照放射性同位素靶時降低到反應堆的容器貫穿件中，并且所輻照的靶去除系統(tǒng)在當與容器貫穿件流體連通時形成反應堆的壓力邊界的一部分。

13.根據(jù)權利要求12所述的靶輻照系統(tǒng)，還包括調(diào)節(jié)器端口對接基座，該調(diào)節(jié)器對接基座包括主體，該主體限定了與所述容器貫穿件流體連通的中心孔；以及對接表面，該對接表面被構造為選擇性地固定至所輻照的靶去除系統(tǒng)的對接表面，其中，調(diào)節(jié)器端口對接基座形成反應堆的壓力邊界的一部分。