[發明專利]納秒脈沖發生器偏置補償在審
| 申請號: | 201980049940.0 | 申請日: | 2019-07-29 |
| 公開(公告)號: | CN112823405A | 公開(公告)日: | 2021-05-18 |
| 發明(設計)人: | 肯尼斯·米勒;迪麥西·津巴;約翰·卡斯凱德;摩根·昆利;艾麗亞·斯勞伯道夫 | 申請(專利權)人: | 鷹港科技有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32;H03K3/017;H03K3/02;H03K3/30;H03K3/53;H03K3/57;H03K5/01;H03K17/74 |
| 代理公司: | 上海君立衡知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31389 | 代理人: | 黃慶 |
| 地址: | 美國華盛頓*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 脈沖 發生器 偏置 補償 | ||
公開一種高電壓功率系統。在一些實施例中,所述高電壓功率系統包括:高電壓脈沖發生電源;變壓器,其與所述高電壓脈沖發生電源電耦合;輸出,其與所述變壓器電耦合,并且配置為輸出具有大于1kV的幅度和大于1kHz的頻率的高電壓脈沖;和偏置補償電路,其布置為與所述輸出并聯。在一些實施例中,所述偏置補償電路可以包括:阻流二極管;和DC電源,其布置為與所述阻流二極管串聯。
本申請要求題為“NANOSECOND PULSER SYSTEM”的2018年7月27日提交的美國臨時專利申請No.62/711,464的優先權,其通過其完整引用合并于此。
本申請要求題為“NANOSECOND PULSER THERMAL MANAGEMENT”的2018年7月28日提交的美國臨時專利申請No.62/711,334的優先權,其通過其完整引用合并于此。
本申請要求題為“NANOSECOND PULSER PULSE GENERATION”的2018年7月27日提交的美國臨時專利申請No.62/711,457的優先權,其通過其完整引用合并于此。
本申請要求2018年7月27日提交的題為“NANOSECOND PULSER ADC SYSTEM”的美國臨時專利申請No.62/711,347的優先權,其通過其完整引用合并于此。
本申請要求題為“EDGE RING POWER SYSTEM”的2018年7月27日提交的美國臨時專利申請No.62/711,467的優先權,其通過其完整引用合并于此。
本申請要求題為“NANOSECOND PULSER BIAS COMPENSATION”的2018年7月27日提交的美國臨時專利申請No.62/711,406的優先權,其通過其完整引用合并于此。
本申請要求題為“NANOSECOND PULSER CONTROL MODULE”的2018年7月27日提交的美國臨時專利申請No.62/711,468的優先權,其通過其完整引用合并于此。
本申請要求題為“PLASMA SHEATH CONTROL FOR RF PLASMA REACTORS”的2018年8月10日提交的美國臨時專利申請No.62/711,523的優先權,其通過其完整引用合并于此。
本申請要求題為“EFFICIENT NANOSECOND PULSER WITH SOURCE AND SINKCAPABILITY FOR PLASMA CONTROL APPLICATIONS”的2019年1月1日提交的美國臨時專利申請No.62/789,523的優先權,其通過其完整引用合并于此。
本申請要求題為“EFFICIENT ENERGY RECOVERY IN A NANOSECOND PULSERCIRCUIT”的2019年1月1日提交的美國臨時專利申請No.62/789,526的優先權,其通過其完整引用合并于此。
本申請要求題為“NANOSECOND PULSER BIAS COMPENSATION”的2019年7月26日提交的美國非臨時專利申請No.16/523,840的優先權,并且是其部分繼續,其通過其完整引用合并于此。
背景技術
在等離子體沉積系統中,晶圓一般通過卡夾(chuck)以靜電方式固定在腔室中。在腔室內創建等離子體,并且引入高電壓脈沖,以將等離子體內的離子加速到晶圓上。如果卡夾與晶圓之間的電勢超過特定電壓閾值(例如,大約±2kV),則晶圓上的力可以大得足以損壞或破壞晶圓。
發明內容
本發明的實施例包括一種用于高電壓等離子體腔室(例如,比如等離子體沉積系統、半導體制造系統、等離子體濺射系統等)中的偏置補償的方法和電路。
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