[發(fā)明專利]義足用足底

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980049186.0
• 申請日: 2019-07-22
• 公開（公告）號: CN112469370A
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 糸井大太;木脅幸洋;小平美帆
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社普利司通
• 主分類號: A61F2/66
• 分類號: A61F2/66
• 代理公司: 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

本發(fā)明的義足用足底安裝于義足的著地區(qū)域，其中，該義足用足底在底面設(shè)有第1傾斜面部和第2傾斜面部，該第1傾斜面部包含俯視時從規(guī)定方向的一側(cè)朝向規(guī)定方向的另一側(cè)去以足底厚度方向的凹陷量逐漸增加的方式傾斜的第1傾斜面，該第2傾斜面部包含俯視時從所述規(guī)定方向的所述另一側(cè)朝向所述規(guī)定方向的所述一側(cè)去以足底厚度方向的凹陷量逐漸增加的方式傾斜的第2傾斜面，所述第1傾斜面部和所述第2傾斜面部在俯視時與所述規(guī)定方向交叉的接連方向上相互接連，由此劃分出側(cè)壁的一部分由所述第1傾斜面和所述第2傾斜面構(gòu)成的、沿所述接連方向延伸的連續(xù)槽。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種在義足的著地區(qū)域安裝的義足用足底。

背景技術(shù)

以往，已知一種競技用的義足，其具有經(jīng)由彎曲部向足尖側(cè)延伸的板簧狀的足部，著地區(qū)域從足尖向彎曲部側(cè)呈弧狀延伸。在具有這樣的板簧狀的足部的義足的著地區(qū)域的底面，通常安裝有與路面抵接的義足用足底。

例如，在專利文獻1中，例示了安裝于彎曲的板簧狀的義足的下表面的與慢跑、賽跑等項目對應(yīng)的足底。即，在專利文獻1中，記載了在與路面接觸的足底的底面安裝有釘?shù)慕Y(jié)構(gòu)、設(shè)有多個外足底部的結(jié)構(gòu)，該多個外足底部分別具有六邊形的著地面。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2016－150189號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

在競技用義足等義足的情況下，要求能夠抑制滑動的防滑性能和提高耐久性的耐磨損性能，對此依然存在改善的余地。

本發(fā)明的目的在于，提供一種能同時實現(xiàn)防滑性能和耐磨損性能的義足用足底。

用于解決問題的方案

本發(fā)明的第1技術(shù)方案的義足用足底安裝于義足的著地區(qū)域，其中，該義足用足底在底面設(shè)有第1傾斜面部和第2傾斜面部，該第1傾斜面部包含俯視時從規(guī)定方向的一側(cè)朝向規(guī)定方向的另一側(cè)去以足底厚度方向的凹陷量逐漸增加的方式傾斜的第1傾斜面，該第2傾斜面部包含俯視時從所述規(guī)定方向的所述另一側(cè)朝向所述規(guī)定方向的所述一側(cè)去以足底厚度方向的凹陷量逐漸增加的方式傾斜的第2傾斜面，所述第1傾斜面部和所述第2傾斜面部在俯視時與所述規(guī)定方向交叉的接連方向上相互接連，由此劃分出側(cè)壁的一部分由所述第1傾斜面和所述第2傾斜面構(gòu)成的、沿所述接連方向延伸的連續(xù)槽。

發(fā)明的效果

采用本發(fā)明，能夠提供一種能同時實現(xiàn)防滑性能和耐磨損性能的義足用足底。

附圖說明

圖1是安裝有本發(fā)明的一個實施方式的足底的競技用義足的側(cè)視圖。

圖2是表示圖1所示的足底的底面的圖案的俯視圖。

圖3是表示圖1所示的足底的側(cè)面的側(cè)視圖。

圖4是沿著圖2的I-I線的剖視圖。

圖5A是用于階段性地說明穿著者穿著有圖1所示的競技用義足并進行直道跑的情況下的、足部的動作和足底的底面的著地狀態(tài)的圖。

圖5B是用于階段性地說明穿著者穿著有圖1所示的競技用義足并進行直道跑的情況下的、足部的動作和足底的底面的著地狀態(tài)的圖。

圖5C是用于階段性地說明穿著者穿著有圖1所示的競技用義足并進行直道跑的情況下的、足部的動作和足底的底面的著地狀態(tài)的圖。