[發(fā)明專利]用于測量和控制送入爐子的裝載材料的裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201980048337.0 | 申請日： | 2019-06-27 |
| 公開（公告）號： | CN112437905A | 公開（公告）日： | 2021-03-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | D·洛卡特利;S·M·瑞麗;P·阿爾杰塔 | 申請（專利權(quán)）人： | 特諾恩股份公司 |
| 主分類號： | G05B19/418 | 分類號： | G05B19/418;F27D3/00;F27D21/00;C21C5/52 |
| 代理公司： | 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11283 | 代理人： | 李健;林治辰 |
| 地址： | 意大*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 測量 控制 送入 爐子 裝載 材料 裝置 | ||
1.一種測量和控制供給到放置在傾斜平臺上的電弧爐(EAF)中的裝載材料的設(shè)備，所述設(shè)備包括：
自動控制裝置，所述自動控制裝置根據(jù)供給到熔池的能量供給裝載材料；以及
用于所述裝載材料的測量裝置，所述測量裝置可操作地聯(lián)接到所述自動控制裝置，所述測量裝置對所述EAF的殼體、所述殼體的內(nèi)容物以及由所述殼體支撐的任何其它部件進行稱重，
其中，所述測量裝置適于定位在所述EAF與所述傾斜平臺之間，并且包括：
上板，所述上板具有適于抵靠所述EAF的下表面滑動的上表面；
下板，所述下板具有適于接合到所述傾斜平臺的下表面；
環(huán)形結(jié)構(gòu)，所述環(huán)形結(jié)構(gòu)聯(lián)接到所述下板的上表面并且具有：
外圍的環(huán)形壁，所述環(huán)形壁具有垂直于所述上板和下板的縱向軸線，
環(huán)形板，所述環(huán)形板聯(lián)接到所述環(huán)形壁的內(nèi)側(cè)且延伸跨越所述環(huán)形結(jié)構(gòu)，和
接觸構(gòu)件，所述接觸構(gòu)件聯(lián)接到所述環(huán)形板并且沿著所述環(huán)形結(jié)構(gòu)的所述縱向軸線延伸，以從上方接觸所述上板的下表面并且在下方不接觸地接近所述下板的上表面，以及
一個或多個傳感器，所述傳感器聯(lián)接到所述環(huán)形板并且測量在所述上板的所述上表面上施加載荷時所述環(huán)形板的變形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述上板的所述上表面由耐磨鋼制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述EAF的與所述上板的所述上表面接觸的所述下表面由耐磨鋼制成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述環(huán)形壁具有圓形周邊。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述環(huán)形板平行于所述上板和所述下板，并且與所述環(huán)形壁的下端相比，所述環(huán)形板更靠近所述環(huán)形壁的上端。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述接觸構(gòu)件具有凸起的上端，從而使所述接觸構(gòu)件與所述上板之間的接觸面積最小化。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述接觸構(gòu)件具有平坦的下端，所述下端在過載的情況下用作行程限制，從而防止所述測量裝置的破裂。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，在所述接觸構(gòu)件的相對側(cè)上設(shè)置有多個傳感器。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，一個或多個所述傳感器是一個或多個應(yīng)變計，所述應(yīng)變計測量在所述上板的上表面上施加載荷時所述環(huán)形板的應(yīng)變。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括多個桿，所述桿在所述上板和所述下板的相對的側(cè)上將所述上板連接到所述下板。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中，多個所述桿包括沿相反方向?qū)堑卦O(shè)置的兩個桿。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中，多個所述桿在所述上板和所述下板的相對的側(cè)中的每一個上包括以階梯圖案結(jié)合的三個桿，所述三個桿包括從所述上板的第一側(cè)端部向下延伸的第一桿、從所述下板的相對的側(cè)端部向上延伸的第二桿以及平行于所述上板和所述下板并且連接所述第一桿的下端部和所述第二桿的上端部的第三桿。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括由一個或多個所述傳感器提供的一個或多個測量的讀數(shù)的數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述自動控制裝置被配置成將所述裝載材料連續(xù)地供給到所述EAF中。
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