[發明專利]能源存儲裝置的堆疊

在審

• 申請號: 201980048217.0
• 申請日: 2019-07-19
• 公開（公告）號: CN112470304A
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發明（設計）人: J.霍華德
• 申請（專利權）人: 戴森技術有限公司
• 主分類號: H01M4/04
• 分類號: H01M4/04;H01M10/058;H01M4/139;H01M6/40;H01M10/0562;H01M10/0585;H01M10/0583
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 張邦帥

1.一種方法，包括：

獲得用于能量存儲裝置的堆疊，所述堆疊包括第一電極層和電解質層；

在第一電極層的暴露部分和電解質層的暴露部分上沉積第一材料；和

在第一材料上沉積第二材料并形成堆疊的第二電極層，并提供與第二電極層的電連接，以通過第二材料連接至另一這樣的第二電極層，

其中，電解質層在第一電極層和第二電極層之間；

由此所述第一材料使第一電極層和電解質層的暴露部分與第二材料絕緣。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，沉積所述第一材料包括所述第一材料的噴墨材料沉積。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述堆疊包括鄰近所述第一電極層和所述第二電極層中的一個的基底，其中，所述第一電極層和所述第二電極層中的另一個是陽極層。

4.根據權利要求3所述的方法，其中，所述第二材料是用于形成陽極層的陽極材料。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其中，所述第一電極層和所述電解質層從所述基底凹進，使得所述基底提供在其上至少部分地支撐所述第一材料和/或所述第二材料的壁架部分。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的方法，其中，所述另一這樣的第二電極層屬于另一這樣的堆疊。

7.根據權利要求1至5中任一項所述的方法，其中，所述堆疊包括另一第二電極層，以及在所述另一第二電極層和所述第一電極層之間的另一電解質層，其中，沉積所述第一材料還包括在所述另一電解質層的暴露部分上沉積第一材料，并且其中沉積第二材料還包括沉積第二材料以接觸所述另一第二電極層，從而經由第二材料連接第二電極層和另一第二電極層，從而第一材料進一步使另一電解質層的暴露部分與第二材料絕緣。

8.根據權利要求7所述的方法，其中，所述電解質層、所述第一電極層和第一另一電解質層從所述另一第二電極層凹進，使得所述另一第二電極層提供在其上支撐所述第一材料和/或所述第二材料的壁架。

9.根據權利要求1至8中的任一項所述的方法，其中，所述方法包括激光燒蝕所述堆疊，并且其中，通過所述激光燒蝕所述堆疊來暴露一個或多個所述暴露部分。

10.一種用于能量存儲裝置的堆疊，所述堆疊包括第一電極、第二電極層以及在第一電極層和第二電極層之間的電解質層，所述堆疊包括在第一電極層的一部分和電解質層的一部分上的第一材料；第二材料，其在第一材料上并形成第二電極層，并提供與第二電極層的電連接，以通過第二材料連接至另一這樣的第二電極層，其中第一材料使第一電極層的該部分和電解質層的該部分與第二材料絕緣。

11.一種能量存儲裝置，其根據權利要求1至9中任一項所述的方法形成。