[發明專利]角度濾光器及其制造方法

有效

• 申請號: 201980048208.1
• 申請日: 2019-07-18
• 公開（公告）號: CN112437892B
• 公開（公告）日: 2023-02-28
• 發明（設計）人: 阿加特·普什卡;威爾弗里德·施瓦茲;廷達拉·韋爾杜奇;本杰明·布蒂農
• 申請（專利權）人: 愛色樂居
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00;G02B5/20;G06V10/14;G06V10/147;H01L27/146
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 譚營營;胡彬

1.一種制造光學系統(20)的方法，所述光學系統包括角度濾光器(22)，所述角度濾光器包括第一和第二初級角度濾光器(F1、F2)的堆疊，所述方法包括穿過所述第一初級角度濾光器(F1)暴露正性抗蝕劑的層(40)，以及去除所述層的暴露部分(46)以形成穿過所述層的孔(42)，被所述孔穿過的所述層形成所述第二初級角度濾光器(F2)，其中所述光學系統(20)包括旨在接收第一輻射(6)的表面(26)，所述層(40)對所述第一輻射(6)不透明，所述角度濾光器(22)被配置為阻擋相對于與所述表面正交的方向的入射大于閾值的所述第一輻射的光線，以及允許相對于與所述表面正交的方向的入射小于所述閾值的所述第一輻射的光線通過；其中所述光學系統(20)還包括插在所述第一初級角度濾光器(F1)與所述第二初級角度濾光器(F2)之間的對所述第一輻射(6)至少部分地透明的附加層(35)；其中對于每個孔(42)，垂直于所述表面(26)測量的所述第一初級角度濾光器(F1)、所述附加層(35)和所述第二初級角度濾光器(F2)的厚度之和與平行于所述表面測量的所述孔的寬度(w)之比在1至10之間變化。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述暴露步驟包括穿過所述第一初級角度濾光器(F1)使所述層(40)暴露于第二輻射(44)，所述正性抗蝕劑對所述第二輻射光敏感。

3.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一輻射(6)在可見光范圍內和/或在紅外光范圍內。

4.根據權利要求1所述的方法，其中每個第一和第二初級角度濾光器(F1、F2)包括被孔(32、42)穿過的層(30、40)。

5.一種光學系統(20)，包括角度濾光器(22)，所述角度濾光器(22)包括第一和第二初級角度濾光器(F1、F2)的堆疊，所述第二初級角度濾光器(F2)包括正性抗蝕劑的層(40)和穿過所述層的孔(42)；所述光學系統(20)還包括旨在接收第一輻射(6)的表面(26)，所述層(40)對所述第一輻射(6)不透明，所述角度濾光器(22)被配置為阻擋相對于與所述表面正交的方向的入射大于閾值的所述第一輻射的光線，以及允許相對于與所述表面正交的方向的入射小于所述閾值的所述第一輻射的光線通過；所述光學系統(20)還包括插在所述第一初級角度濾光器(F1)與所述第二初級角度濾光器(F2)之間的對所述第一輻射(6)至少部分地透明的附加層(35)；其中對于每個孔(42)，垂直于所述表面(26)測量的所述第一初級角度濾光器(F1)、所述附加層(35)和所述第二初級角度濾光器(F2)的厚度之和與平行于所述表面測量的所述孔的寬度(w)之比在1至10之間變化。

6.根據權利要求5所述的系統，其中所述正性抗蝕劑對第二輻射(44)光敏感。

7.根據權利要求5所述的系統，其中所述孔(42)以行和列布置，同一行或同一列的相鄰孔之間的間距(p)在1μm至100μm之間變化。

8.根據權利要求5所述的系統，其中沿著與所述表面(26)正交的方向測量的每個孔(42)的高度(h1)在1μm至50μm之間變化。

9.根據權利要求5所述的系統，其中平行于所述表面(26)測量的每個孔(42)的寬度(w)在1μm至100μm之間變化。