[發明專利]用于光學部件的固定結構、光學單元以及裝置

在審

• 申請號: 201980045565.2
• 申請日: 2019-06-07
• 公開（公告）號: CN112400131A
• 公開（公告）日: 2021-02-23
• 發明（設計）人: 前坂明弘;大喜多拓己;水口由紀子
• 申請（專利權）人: 索尼公司
• 主分類號: G02B7/00
• 分類號: G02B7/00;G02B7/02
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 張榮海

本發明提供了一種用于光學部件的固定結構，其能夠通過減小在用于固定光學部件的粘合劑固化和收縮時產生的應力來抑制光學部件的應變。本發明提供一種用于光學部件的固定結構，其設置有光學部件及與該光學部件的保持部分接觸的接合部分，其構成為：該接合部分包括第一固化粘合劑層及第二固化粘合劑層；第一固化粘合劑層位于光學部件與第二固化粘合劑層之間，且第一固化粘合劑層的儲存彈性模量低于第二固化粘合劑層的儲存彈性模量。

技術領域

本技術涉及用于光學部件的固定結構、光學單元以及包括光學單元的裝置。

背景技術

存在這樣的情況：在通過粘合劑將諸如透鏡之類的光學部件固定到固定框架時，粘合劑的固化和收縮導致光學部件的形變和位移。已經提出了各種抑制光學部件的這種形變和位移的技術。例如，專利文獻1描述了一種光學構件的固定結構，其中使用高彈性粘合劑來定位光學構件并將其固定到保持裝置，并且其中使用低彈性粘合劑來填充保持裝置和光學構件之間的間隙。此外，專利文獻2描述了一種包括粘合輔助構件的透鏡組件，粘合輔助構件包括彈性構件，彈性構件可在粘合劑固化時由于從粘合劑施加的力而變形。

引文列表

專利文獻

專利文件1：日本專利申請公開號2004-133073

專利文件2：日本專利申請公開號2016-85311

發明內容

本發明要解決的問題

在專利文獻1所述的技術的情況下，當高彈性粘合劑固化時，在高彈性粘合劑和光學構件之間的界面處有可能產生高應力，并且在光學構件中有可能產生局部大形變。在專利文獻2中所述的技術的情況下，很難減小由固化引起的應力以及在粘合劑和透鏡之間的界面處產生的收縮，并且存在在透鏡中產生形變的可能性。

因此，本技術的一個主要目的是提供用于光學部件的固定結構，其使得能夠減小在用于固定光學部件的粘合劑固化和收縮時產生的應力，并使得能夠抑制光學部件的形變。

對問題的解決方案

本發明人注意到，上述專利文獻1和專利文獻2所代表的常規技術能夠有助于減小整個光學部件中的內應力，但是難以減小在光學部件和粘合劑之間的界面處產生的應力，并且深入研究了使得能夠減小界面處的應力的技術。結果，本發明人發現，通過在光學部件的固定結構中設置具有特定儲存彈性模量的粘合劑固化材料層，可以減小在光學部件和粘合劑之間的界面處產生的應力，并且可以抑制光學部件的形變，獲得了本技術。

也就是說，本技術提供了一種用于光學部件的固定結構，包括：光學部件；以及與光學部件的保持部分接觸的粘合部分，

其中，所述粘合部分包括第一粘合劑固化材料層和第二粘合劑固化材料層，

第一粘合劑固化材料層位于光學部件和第二粘合劑固化材料層之間，以及

第一粘合劑固化材料層的儲存彈性模量低于第二粘合劑固化材料層的儲存彈性模量。

第一粘合劑固化材料層的儲存彈性模量可以是第二粘合劑固化材料層的儲存彈性模量的1/2或更小。

在1Hz且30℃的條件下的動態力學分析中，所述第二粘合劑固化材料層的儲存彈性模量可以為10MPa或更大。

所述第一粘合劑固化材料層可以包含硅酮粘合劑的固化材料、改性硅酮粘合劑的固化材料或聚氨酯粘合劑的固化材料。

用于光學部件的固定結構還可以包括

第三粘合劑固化材料層，

其中，第三粘合劑固化材料層可以被布置在與第一粘合劑固化材料層相對的位置處，第二粘合劑固化材料層介于它們之間，以及