[發明專利]雙干涉測量樣本測厚儀

有效

• 申請號: 201980044998.6
• 申請日: 2019-07-02
• 公開（公告）號: CN112384750B
• 公開（公告）日: 2022-03-15
• 發明（設計）人: A·薩夫蘭
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06;G01B9/02
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉麗楠

1.一種測量系統，其包括：

控制器，其經通信耦合到第一干涉儀和第二干涉儀，所述控制器包含一或多個處理器，所述一或多個處理器配置成執行使得所述一或多個處理器進行以下操作的程序指令：

從所述第一干涉儀接收第一干涉信號，其中所述第一干涉儀利用第一照明光束在沿著測量方向掃描所述測試樣本或所述參考樣本中的至少一個時在測試樣本的第一表面與具有已知厚度的參考樣本的第一表面之間產生第一干涉圖，所述第一照明光束包含來自光束分光器的照明光束的第一部分；

從所述第二干涉儀接收第二干涉信號，其中所述第二干涉儀利用第二照明光束在所述測試樣本的第二表面與所述參考樣本的第二表面之間產生第二干涉圖，所述第二照明光束包含來自所述光束分光器的所述照明光束的第二部分；和

基于所述參考樣本的所述厚度和平移臺在所述第一干涉信號與所述第二干涉信號的包絡線的峰值之間行進的距離來沿所述測量方向確定所述測試樣本的厚度。

2.根據權利要求1所述的測量系統，其中所述光束分光器經配置以接收來自照明源的照明，且所述第一干涉信號和所述第二干涉信號的所述包絡線的寬度與來自所述照明源的所述照明的時間相干長度相關。

3.根據權利要求1所述的測量系統，其中所述第一干涉儀和所述第二干涉儀將所述第一照明光束和所述第二照明光束聚焦到所述測試樣本的所述第一表面和所述第二表面的相對點，其中所述測試樣本沿所述測量方向的所述厚度包含所述相對點之間的單個厚度測量值。

4.根據權利要求3所述的測量系統，其中所述第一干涉儀和所述第二干涉儀包含單像素檢測器。

5.根據權利要求1所述的測量系統，其中所述第一干涉儀和所述第二干涉儀將所述第一照明光束和所述第二照明光束作為準直光束導引到所述測試樣本的所述第一表面和所述第二表面的相對區，其中所述測試樣本沿所述測量方向的所述厚度與所述相對區之間的多個厚度測量值相關。

6.根據權利要求5所述的測量系統，其中所述第一干涉儀和所述第二干涉儀包含多像素檢測器，其中所述第一干涉信號和所述第二干涉信號各自包含與所述相對區內的所述測試樣本的所述第一表面和所述第二表面上的多個相對點相關的多個信號。

7.根據權利要求1所述的測量系統，其中所述光束分光器經配置以接收來自照明源的照明，且所述照明源包括：

寬帶激光源。

8.根據權利要求1所述的測量系統，其中所述光束分光器經配置以接收來自照明源的照明，且照明源包括：

發光二極管LED。

9.根據權利要求8所述的測量系統，其中所述LED包括：

超發光LED。

10.根據權利要求1所述的測量系統，其中所述控制器依所選間隔對所述第一干涉信號和所述第二干涉信號采樣以產生所采樣第一干涉信號和所采樣第二干涉信號。

11.根據權利要求10所述的測量系統，其中所述控制器包含用以對所述第一干涉信號和所述第二干涉信號采樣的模擬到數字轉換器。

12.根據權利要求11所述的測量系統，其中所述模擬到數字轉換器依所述所選間隔從掃描所述測試樣本或所述參考樣本中的所述至少一個的所述平移臺接收硬件位置觸發后，對所述第一干涉信號和所述第二干涉信號采樣。