[發明專利]微發光二極管陣列平版印刷術

在審

• 申請號: 201980044364.0
• 申請日: 2019-05-31
• 公開（公告）號: CN112334837A
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發明（設計）人: D·馬克萊
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027;H01L21/67
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

描述一種平版印刷術設備，具有：基板掃描系統，經配置以掃描基板；圖案發生器，經配置以接收輸入信號和產生輸出信號，所述輸出信號與圖案相關；和光源，所述光源連接到所述圖案發生器，其中所述光源是至少一個微發光二極管陣列，其中所述陣列經配置以接收來自所述圖案發生器的所述信號并重復由所述圖案發生器產生的所述圖案。

背景

領域

本公開內容的方面涉及無掩模平版印刷術系統(maskless lithographysystem)。更特別地，本公開內容的方面涉及用于微發光二極管陣列平版印刷術的系統和方法。

相關技術描述

發光二極管技術中的進步在若干工業中持續快速發展。作為示例，目前在單個基板上制造發光二極管(light emitting diode，LED)的大陣列連同邏輯電路(logic)與驅動器是可行的。目前用于無掩模平版印刷術的常規技術使用激光照射、微鏡陣列(micro-mirror array)，例如是可從德州儀器(Texas Instruments)獲得的那些設備。使用此裝置結合平版印刷術具有兩個固有的缺點。第一個缺點是最大幀率是20kHz。第二個缺點是與鏡陣列的光柵特性結合的照射光束的相干性(coherence)與投射透鏡的遠心要求沖突。受限的幀率產生非常慢的掃描速率和/或低的整體產量。受限的幀率還可產生對于基板上的每一點計算五十(50)或更多個不同的圖案的非常復雜的軟件。此外，缺乏遠心不只犧牲景深性能，而且還犧牲覆蓋(overlay)性能。

需要提供不與遠心要求沖突的用于平版印刷術系統的照射系統和方法。

還需要提供供給所涉及的系統的改善的掃描速率和較大的整體產量的用于平版印刷術系統的照射系統和方法。

還需要提供相較于常規系統供給增加的景深性能的平版印刷術系統。

還需要提供相較于常規系統供給更好的覆蓋性能的平版印刷術系統。

概述

以下概述不應視為限制本公開內容的方面。

在一個非限制性實施方式中，一種平版印刷術設備被公開而包括基板掃描系統，經配置以掃描基板；一個或多個微發光二極管陣列，由成像系統成像至基板上，其中硬連線(hard-wired)邏輯電路結合到該一個或多個微發光二極管陣列中，并且經配置以在一個掃描方向中使邏輯信號移位并且經配置以使用邏輯信號來將單獨的微LED完全地接通或完全地關斷。

在另一非限制性實施方式中，一種執行微發光二極管平版印刷術的方法被公開而包括：將基板放置于平臺上，平臺經配置以保持基板；將平臺上的基板與標記(reference)對準；利用微發光二極管的至少一個陣列照射平臺上的基板；和從平臺移除基板。

其他方面和優點將通過下方的說明和所附的權利要求書而變得清楚。

附圖簡要說明

為了可詳細地理解本公開內容的上述特征，可通過參考實施方式獲得上文簡要概述的本公開內容的更具體說明，在附圖中圖示實施方式中的一些。然而，值得注意的是，附圖僅圖示本公開內容的典型實施方式并且因而不視為本公開內容的范圍的限制，因為本公開內容可允許其他同等有效的實施方式。

圖1是示出線邊緣的位置如何可通過改變相對曝光劑量來移動的圖表，相對曝光劑量由在線邊緣處的像素產生。

圖2是示出相對曝光劑量與線邊緣位置之間的關系曲線的近似線性關系的圖表，相對曝光劑量由限定邊緣的二極管的行產生。

圖3是浸沒透鏡覆蓋的LED陣列的平面橫截面圖。

圖4是圖示觸發器邏輯狀態如何進展通過5個時鐘周期的示意圖。

圖5是圖示同步于基板的運動，包含于LED列中的內部和外部邏輯電路可如何布置來從LED陣列的一端傳送曝光圖案至另一端的示意性示例。