[發(fā)明專利]止回閥系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980043520.1
• 申請日: 2019-06-27
• 公開（公告）號(hào): CN112292552B
• 公開（公告）日: 2023-08-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: H·特納;G·法伊諾
• 申請（專利權(quán)）人: 邁德米斯瑞士股份公司
• 主分類號(hào): F16K15/02
• 分類號(hào): F16K15/02;F16K27/02
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 任霄;王麗輝

1.一種止回閥系統(tǒng)，其包括：

殼體，所述殼體具有從中穿過的通道，所述通道包括第一部分和第二部分，所述第一部分具有小于所述第二部分的直徑的直徑，以便形成階梯狀部分；

阻擋元件，所述阻擋元件安置在所述通道的所述第二部分內(nèi)，所述阻擋元件為大致圓形，并且具有圓頂形狀，所述圓頂形狀具有弓形表面以及與所述弓形表面相對的平坦表面；以及

偏置構(gòu)件，所述偏置構(gòu)件安置在所述通道的所述第二部分內(nèi)并且被構(gòu)造成在處于壓縮狀態(tài)時(shí)維持所述阻擋元件與所述階梯狀部分接觸，

所述殼體、所述阻擋元件和所述偏置構(gòu)件能夠通過大致同時(shí)3D打印獲得，以便由一種或多種能夠3D打印的材料形成，

其中，所述偏置構(gòu)件是在零應(yīng)力下形成的彈簧，并且

其中，所述彈簧被構(gòu)造成當(dāng)混合器至少部分安置在所述通道的所述第二部分中時(shí)被初始地壓縮。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的止回閥系統(tǒng)，其中

所述殼體、所述阻擋元件和所述偏置構(gòu)件由相同材料形成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的止回閥系統(tǒng)，其中

所述通道在其內(nèi)表面上包括保持夾。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的止回閥系統(tǒng)，其中

所述保持夾被構(gòu)造成使所述偏置構(gòu)件保持在部分壓縮狀態(tài)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的止回閥系統(tǒng)，其中

所述偏置構(gòu)件被構(gòu)造成當(dāng)用于施配化合物的施配器與所述止回閥系統(tǒng)耦接時(shí)被壓縮。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的止回閥系統(tǒng)，其中

所述殼體、所述阻擋元件和所述偏置構(gòu)件由PA12、聚丙烯、玻璃填充的聚酰胺中的至少一者形成。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的止回閥系統(tǒng)，其中

所述通道是第一通道，并且所述殼體包括第二通道，所述阻擋元件是第一阻擋元件，并且第二阻擋元件安置在所述第二通道中，并且所述偏置構(gòu)件是第一偏置構(gòu)件，并且第二偏置構(gòu)件安置在所述第二通道中，所述第一和第二通道大致彼此平行。

8.一種形成止回閥系統(tǒng)的方法，所述方法包括：

大致同時(shí)3D打印以下部件：殼體，所述殼體具有從中穿過的通道，所述通道包括第一部分和第二部分，所述第一部分具有小于所述第二部分的直徑的直徑，以便形成階梯狀部分；阻擋元件，所述阻擋元件安置在所述通道的所述第二部分內(nèi)，所述阻擋元件為大致圓形，并且具有圓頂形狀，所述圓頂形狀具有弓形表面以及與所述弓形表面相對的平坦表面；以及偏置構(gòu)件，所述偏置構(gòu)件安置在所述通道的所述第二部分內(nèi)并且被構(gòu)造成在處于壓縮狀態(tài)時(shí)維持所述阻擋元件與所述階梯狀部分接觸，其中，所述偏置構(gòu)件是在零應(yīng)力下形成的彈簧；并且

當(dāng)混合器至少部分安置在所述通道的所述第二部分中時(shí)初始地壓縮所述彈簧。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其進(jìn)一步包括

在所述3D打印期間在所述通道的內(nèi)表面上形成保持夾。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其進(jìn)一步包括

通過所述保持夾使所述偏置構(gòu)件保持在部分壓縮狀態(tài)。

11.根據(jù)權(quán)利要求8至10中的任一項(xiàng)所述的方法，其進(jìn)一步包括

當(dāng)用于施配化合物的施配器耦接到所述止回閥系統(tǒng)時(shí)，壓縮所述偏置構(gòu)件。

12.根據(jù)權(quán)利要求8至10中的任一項(xiàng)所述的方法，其進(jìn)一步包括

由PA12、聚丙烯、玻璃填充的聚酰胺中的至少一者形成所述殼體、所述阻擋元件和所述偏置構(gòu)件。