[發明專利]基于性能匹配的調諧掃描器的波前優化

在審

• 申請號: 201980042738.5
• 申請日: 2019-06-21
• 公開（公告）號: CN112313581A
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 段?！な返俜摇ぬK;C·R·K·C·亨納克斯;拉斐爾·C·豪厄爾;施展;李小陽;F·斯塔爾斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 閆紅

1.一種用于確定圖案化過程的圖案形成設備的波前的方法，所述方法包括：

獲得(i)參考設備的參考性能、(ii)被配置成將波前的波前參數轉換為致動器移動的圖案形成設備的透鏡模型、和(iii)調諧掃描器的透鏡指紋；以及

經由處理器，基于所述調諧掃描器的所述透鏡指紋、所述透鏡模型、和成本函數，確定所述波前參數，其中所述成本函數是所述參考性能與調諧掃描器性能之間的差。

2.根據權利要求1所述的方法，其中確定所述波前參數是迭代過程，迭代包括：

經由使用所述調諧掃描器的所述透鏡指紋對所述透鏡模型的模擬，產生初始波前；

根據所述初始波前來確定襯底圖案；

根據所述襯底圖案來確定調諧性能；

基于所述調諧性能和所述參考性能來評估所述成本函數；以及

基于所述成本函數的梯度來調整所述初始波前的所述波前參數，以便改善所述成本函數。

3.根據權利要求1所述的方法，其中所述波前包括所述調諧掃描器的所述透鏡指紋和所述透鏡模型的性能指紋。

4.根據權利要求3所述的方法，其中調整所述波前參數還基于所述透鏡模型的所述性能指紋。

5.根據權利要求2所述的方法，其中確定所述襯底圖案包括：使用所述初始波前或調整后的波前，對所述圖案化過程的過程模型進行模擬，和/或

其中所述過程模型包括：

掩模模型，所述掩模模型被配置成基于掩模圖案來預測掩模圖像；

光學模型，所述光學模型被配置成根據所述掩模圖案來預測空間圖像；和/或

抗蝕劑模型，所述抗蝕劑模型被配置成根據所述空間圖像來預測抗蝕劑圖像。

6.根據權利要求2所述的方法，其中確定所述襯底圖案包括：

經由量測工具接收曝光后的襯底的襯底測量結果，其中使用所述初始波前或調整后的波前來曝光所述襯底；和

基于來自所述襯底測量結果的輪廓提取來確定所述襯底圖案。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述成本函數被最小化或最大化。

8.根據權利要求1所述的方法，其中所述成本函數是邊緣放置誤差、CD和/或邊緣放置的公差帶內的誤差。

9.根據權利要求1所述的方法，其中所述透鏡模型包括與對應于波前參數的調諧掃描器的校正限制相關的約束。

10.根據權利要求1所述的方法，其中所述波前參數包括與所述圖案形成設備的光學系統相關聯的偏移、傾斜、曲率、和/或至多第三階參數。

11.根據權利要求1所述的方法，其中所述波前是貫穿狹縫波前。

12.根據權利要求11所述的方法，其中所述狹縫具有矩形形狀。

13.根據權利要求1所述的方法，其中所述波前由跨過狹縫的澤尼克多項式表示。

14.根據權利要求13所述的方法，其中所述波前參數被表述為澤尼克系數的向量。

15.根據權利要求1所述的方法，所述方法還包括：

經由所述透鏡模型，將所述波前參數轉換為所述致動器移動；以及

基于所述致動器移動，致動所述調諧掃描器的光學系統。