[發明專利]用于檢測在基板的表面上或在基板內的磷酸鹽和/或硫酸鹽的方法、LWIR檢測裝置的用途及LWIR成像系統

在審

• 申請號: 201980042596.2
• 申請日: 2019-07-19
• 公開（公告）號: CN112334757A
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發明（設計）人: R·伯爾斯特羅姆;K·M·赫特曼
• 申請（專利權）人: OMYA國際股份公司
• 主分類號: G01N21/35
• 分類號: G01N21/35;B41M3/14;G07D7/12;B42D25/382;G07D7/1205
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 馮雯

1.一種用于檢測在基板的表面上和/或在基板內的磷酸鹽和/或硫酸鹽的非晶和/或結晶結構的方法，所述方法包含以下步驟：

i)提供基板，所述基板包含在基板的表面上或在基板內的磷酸鹽和/或硫酸鹽的非晶和/或結晶結構，

ii)提供LWIR檢測裝置，

iii)利用至少在8至14μm的整個波長范圍內的紅外光來輻照i)的基板，以及

iv)利用步驟ii)中提供的LWIR檢測裝置來檢測因步驟iii)中的輻照導致的由基板以及磷酸鹽和/或硫酸鹽的非晶和/或結晶結構散射和/或發射反射的電磁輻射的強度。

2.如權利要求1所述的方法，其中基板是紙、片材、箔、卡紙板、聚合物膜、編織聚合紡織物、非編織聚合紡織物，和/或其中基板包含纖維素。

3.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中在基板的表面上或在基板內的磷酸鹽和/或硫酸鹽是磷酸鈣和/或硫酸鈣。

4.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中基板被層合或涂布，并且優選地被層合或涂布有聚合物層，其中層合物或涂布層在8至14μm的整個波長范圍內至少部分地透明。

5.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中LWIR檢測裝置是輻射熱計或包含碲鎘汞的傳感器，并且優選地，LWIR檢測裝置是輻射熱計。

6.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中在步驟iii)中，由至少一個聚焦/散射裝置聚焦和/或散射所輻照的紅外光。

7.如權利要求6所述的方法，其中所述至少一個聚焦裝置是準直器，和/或所述至少一個聚焦/散射裝置是透鏡，和/或如果存在紅外光發射源則所述至少一個聚焦和/或聚焦/散射裝置位于紅外光發射源與基板之間。

8.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中在步驟iv)中，由至少一個收集裝置收集并可選地聚焦散射和/或發射的電磁輻射。

9.如權利要求8所述的方法，其中所述至少一個收集裝置是物鏡，并且優選地是透鏡，和/或所述至少一個收集裝置位于基板與LWIR檢測裝置之間。

10.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中在步驟iv)中，由至少一個濾波裝置對散射和/或發射的電磁輻射進行濾波。

11.如權利要求10所述的方法，其中所述至少一個濾波裝置是光學濾波器，優選地是帶通濾波器或者長通濾波器與短通濾波器的組合或者可調諧濾波器，優選地是可調諧MEMS法布里-珀羅濾波器，更優選地是在8.8至9.3μm或10.0至10.6μm或11.3至11.8μm的范圍中的帶通濾波器或者8μm的長通濾波器與8.8μm的短通濾波器的組合或者10.3μm的長通濾波器與10.8μm的短通濾波器的組合，或者在8至14μm的范圍中的可調諧濾波器，并且優選地具有100nm及以下的光譜分辨率，和/或所述至少一個濾波裝置位于基板與LWIR檢測裝置之間，并且如果存在物鏡則所述至少一個濾波裝置優選地位于物鏡與LWIR檢測裝置之間。

12.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中所述方法包含由計算機裝置讀出步驟iv)中的檢測到的電磁輻射的強度的量的另外步驟，其中所述計算機裝置優選地是移動電話。

13.一種LWIR檢測裝置的用途，所述LWIR檢測裝置用于檢測由涂布于基板的表面上和/或存在于基板中的磷酸鹽和/或硫酸鹽的非晶和/或結晶結構散射和/或發射反射的電磁輻射的強度。

14.一種基板的用途，所述基板至少部分地涂布有磷酸鹽和/或硫酸鹽的非晶和/或結晶結構或其內包含磷酸鹽和/或硫酸鹽的非晶和/或結晶結構，用于經由可由LWIR檢測裝置檢測的電磁輻射散射和/或發射提供信息。