[發明專利]磁感應流量計以及制造這樣的磁感應流量計的方法在審
| 申請號: | 201980042565.7 | 申請日: | 2019-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN112368551A | 公開(公告)日: | 2021-02-12 |
| 發明(設計)人: | 托馬斯·祖爾策;西蒙·瑪利亞格;西蒙·特里本巴赫爾;邁克爾·富克斯 | 申請(專利權)人: | 恩德斯+豪斯流量技術股份有限公司 |
| 主分類號: | G01F1/58 | 分類號: | G01F1/58 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 穆森;戚傳江 |
| 地址: | 瑞士,*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 感應 流量計 以及 制造 這樣 方法 | ||
1.一種磁感應流量計,包括:測量管,所述測量管用于輸送介質;磁場產生裝置;以及至少兩個測量電極,所述至少兩個測量電極用于感測在所述介質中感應產生的測量電壓,
其特征在于,在所述測量管內部選擇性地施加導電涂層,以形成與所述介質的電流接觸。
2.根據前述權利要求中的一項所述的流量測量設備,
其中,所述導電涂層包括導電聚合物和/或金屬和/或涂層系統和/或粉末涂層。
3.根據前述權利要求中的一項所述的流量測量設備,
其中,所述導電涂層被實施為環形,
其中,所述導電涂層具有環厚度d和環寬度b。
4.根據前述權利要求中的一項所述的流量測量設備,
其中,將所述導電涂層被選擇性地施加在所述測量管的進口和出口上。
5.根據前述權利要求中的一項所述的流量測量設備,
其中,對于具有長度l和公稱直徑D且D≥DN300的測量管,b≥c·l,
其中,0.05≤c≤0.25,并且優選地0.10≤c≤0.20。
6.根據前述權利要求中的一項所述的流量測量設備,
其中,所述導電涂層具有電導率S1,其中S1≥106S/m,尤其地S1≥5·106S/m,并且優選地S1≥107S/m。
7.根據前述權利要求中的一項所述的流量測量設備,
其中,所述測量管包括具有襯里或絕緣涂層的導電管。
8.根據前述權利要求中的一項所述的流量測量設備,
其中,將所述導電涂層施加在所述襯里或所述絕緣涂層上。
9.根據權利要求8所述的流量測量設備,
其中,所述導電管僅部分地涂覆有所述襯里或所述絕緣涂層,其中將所述導電涂層施加在所述管的暴露區域上。
10.根據前述權利要求中的一項所述的流量測量設備,
其中,所述測量管包括絕緣管,尤其地玻璃管或陶瓷管,或優選地塑料管。
11.根據前述權利要求中的一項所述的流量測量設備,
其中,在每種情況下,在所述測量管的末端安裝有法蘭,其中所述導電涂層至少部分地延伸到所述法蘭上。
12.根據前述權利要求中的一項所述的流量測量設備,
其中,借助于電纜和/或一片金屬片和/或通過將所述導電管接地而將所述導電涂層置于電接地。
13.一種借助于旋轉涂覆方法,尤其地借助于澆注或噴涂方法,或者優選地借助于冷等離子體方法或帶流動方法在如前述權利要求中的一項所述的流量計中選擇性地施加絕緣涂層和導電涂層的方法,
其特征在于步驟A)至步驟G):
A)在所述測量管中安置第一澆注頭或噴頭,尤其地與冷等離子體兼容的噴頭;
B)將所述測量管旋轉;
C)施加所述絕緣涂層;
D)在所述測量管中安置第二澆注頭或噴頭,尤其地與冷等離子體兼容的噴頭;
E)將所述測量管旋轉;
F)選擇性地施加所述導電涂層;
G)可選地重復方法步驟A)至F)。
14.根據權利要求13所述的方法,
其中,所述管的至少一個區域由至少一個圍欄元件界定和/或由至少一層膜覆蓋,
其中,所述圍欄元件和/或所述膜避免了在所述區域中通過在步驟C)中施加的所述絕緣涂層來涂覆所述管,
其中,在步驟C)之后移除所述圍欄元件和/或所述膜,
其中,在步驟F)中用所述導電涂層填充所述區域。
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