[發明專利]可視化和瀏覽大規模生成設計數據集的技術在審
| 申請號: | 201980042372.1 | 申請日: | 2019-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN112368702A | 公開(公告)日: | 2021-02-12 |
| 發明(設計)人: | T·格羅斯曼;E·布拉德納;G·菲茨莫里斯;A·B·哈希米;M·格盧克;J·F·馬捷卡 | 申請(專利權)人: | 歐特克公司 |
| 主分類號: | G06F30/20 | 分類號: | G06F30/20;G06F30/10;G06F8/38 |
| 代理公司: | 北京市磐華律師事務所 11336 | 代理人: | 高偉 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 可視化 瀏覽 大規模 生成 設計 數據 技術 | ||
設計應用程序配置為可視化和瀏覽大規模生成設計數據集。設計瀏覽器包括生成設計瀏覽器,合成瀏覽器和權衡瀏覽器的圖形用戶界面(GUI)引擎。設計瀏覽器顯示設計空間中包含的多個設計選項的可視化。設計瀏覽器允許用戶基于影響生成設計過程的輸入參數以及與不同設計選項相關的各種設計特征來過濾設計空間。合成瀏覽器顯示了包含多個不同設計選項的完全交互式合成體。合成瀏覽器提供了各種工具,這些工具允許用戶通過與合成體的交互來過濾設計空間。權衡瀏覽器基于設計選項的不同排序顯示權衡空間。不同的排序可能對應于不同設計師指定的競爭設計特征。
本申請要求于2018年4月23日提交的標題為“可視化和瀏覽大規模生成設計數據集的技術(Techniques for Visualizing and Exploring Large-Scale GenerativeDesign Datasets)”,序列號為62/661,461的美國臨時專利申請的優先權,要求2019年3月19日提交的標題為“可視化和瀏覽大規模生成設計數據集的技術(Techniques forVisualizing and Exploring Large-Scale Generative Design Datasets)”,序列號為16/358,633的美國專利申請的優先權,并要求2019年3月19日提交的標題為“可視化和瀏覽大規模生成設計數據集的技術(Techniques for Visualizing and Exploring Large-Scale Generative Design Datasets)”,序列號為16/358,635的美國專利申請的優先權。這些相關申請的主題在此通過引用并入本文。
背景
各種實施方式的技術領域
本發明的實施例通常涉及計算機輔助設計技術,并且更具體地,涉及用于可視化和瀏覽大規模生成設計數據集的技術。
相關背景技術的描述
在生成的設計工作流中,設計人員分析工程問題并生成描述該工程問題的各個方面的問題定義。特別是,問題定義規定了任何給定設計應滿足的不同設計標準,包括設計約束和設計目標。設計人員將問題定義輸入到生成設計系統中,然后生成設計系統自動生成許多符合設計標準的設計選項。然后,設計人員查看不同的設計選項,并標識滿足設計人員所持有的各種工程和/或美學標準的設計選項的子集。
上述方法的一個缺點是針對任何給定的問題定義生成設計系統會生成數以萬計的設計選項。因此,有大量的數據供設計人員進行分析。設計人員通常通過忽略很大一部分生成的設計選項來解決此問題。但是,采用這種方法,設計人員最終可能會忽略并且不考慮經過設計人員適當分析和考慮后會發現是滿足工程和/或美學標準的許多“良好”設計。
上述方法的另一個缺點是,不同的設計師通常對于給定的設計方案是否滿足某項工程和/或美學標準有不同的意見。這種觀點上的分歧會降低讓多個設計人員共同分析使用生成設計系統時通常生成的眾多設計選項的效率。設計人員通常通過考慮所生成的設計選項的子集來解決此問題,該子集僅滿足參與設計過程的所有設計人員共同持有的工程和/或美學標準。但是,考慮到要考慮的設計方案太多,這種方法也可能導致許多潛在的“好的”設計被忽略而不予以考慮。
如前所述,本領域所需要的是用于分析大規模生成設計數據集的更有效的技術。
發明內容
各種實施例包括用于分析設計選項的計算機實現的方法,所述方法包括:基于與工程設計問題相關的問題定義生成設計選項集;基于所述設計選項集生成圖像集,其中,所述圖像集中包括的每個圖像與不同的α值相關聯;組合所述圖像集以生成第一合成體(composite),所述第一合成體指示與所述設計選項集中包括的每個設計選項相關聯的邊界的至少一部分;接收與所述第一合成體的第一用戶交互;以及基于所述第一用戶交互以及從所述第一用戶交互導出的一個或更多個幾何準則,生成設計選項的子集。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于歐特克公司,未經歐特克公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201980042372.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:電子元件搭載用基板、電子裝置以及電子模塊
- 下一篇:雷達裝置





