[發(fā)明專利]脈動(dòng)流反應(yīng)器及其使用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201980040465.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-05-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112351833B | 公開(公告)日: | 2022-11-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 伯特·D·F·梅滕;科恩·托耶;K·J·A·范阿肯;沃特·德布魯維爾 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 味之素歐姆尼凱姆公司;埃科辛斯公司 |
| 主分類號(hào): | B01J19/00 | 分類號(hào): | B01J19/00;B01J19/24 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270 | 代理人: | 孟媛;李雪 |
| 地址: | 比利時(shí)*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 脈動(dòng) 反應(yīng)器 及其 使用 | ||
1.一種流反應(yīng)器(1),所述流反應(yīng)器包括:
- 基本直的平面處理通道(2),所述基本直的平面處理通道具有縱向方向(3)并由底壁(4)、頂壁(5)、兩個(gè)側(cè)壁(6,7)、第一端壁(8)和沿著所述縱向方向與所述第一端壁相對(duì)的第二端壁(9)界定,所述處理通道包括在所述第一端壁處的至少一個(gè)入口(10)和在所述第二端壁處的至少一個(gè)出口(11),所述至少一個(gè)入口被構(gòu)造成將至少一種進(jìn)料流引入到所述處理通道中,所述至少一個(gè)出口被構(gòu)造成從所述處理通道中排出至少一種產(chǎn)物流,其中,所述處理通道由單個(gè)基本直的通道組成;
- 流發(fā)生器(14),所述流發(fā)生器被構(gòu)造成在所述處理通道內(nèi)產(chǎn)生脈動(dòng)流,所述脈動(dòng)流包括沿著所述縱向方向通過所述處理通道的單向凈流分量和疊加在所述單向凈流分量上的振蕩流分量;以及
- 多個(gè)靜態(tài)混合元件(15),所述多個(gè)靜態(tài)混合元件被布置在所述處理通道內(nèi)并且被構(gòu)造成局部地分離并重組所述脈動(dòng)流,所述處理通道具有內(nèi)部容積,所述混合元件占用至少所述內(nèi)部容積的5%和至多所述內(nèi)部容積的30%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流反應(yīng)器,其中,所述流發(fā)生器被構(gòu)造成產(chǎn)生具有歸一化的振蕩雷諾數(shù)的所述脈動(dòng)流,所述歸一化的振蕩雷諾數(shù)為至少5v,其中,v是所述處理通道中的材料的運(yùn)動(dòng)粘度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的流反應(yīng)器,其中,所述流發(fā)生器被構(gòu)造成產(chǎn)生具有速度比的所述脈動(dòng)流,所述速度比為至少1,其中所述速度比是振蕩雷諾數(shù)與凈雷諾數(shù)之比,并由2πfx0/u給出,其中,u是所述單向凈流分量的速度,f是所述振蕩流分量的頻率并且x0是所述振蕩流分量的中心到峰值的振幅。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的流反應(yīng)器,其中,所述流發(fā)生器被構(gòu)造成產(chǎn)生具有歸一化的凈雷諾數(shù)的所述脈動(dòng)流,所述歸一化的凈雷諾數(shù)為至多200v,其中,v是所述處理通道中的材料的運(yùn)動(dòng)粘度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的流反應(yīng)器,其中,所述混合元件進(jìn)一步被構(gòu)造成在所述脈動(dòng)流內(nèi)產(chǎn)生垂直渦流。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的流反應(yīng)器,其中,所述頂壁包括至少一個(gè)透明部分。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的流反應(yīng)器,其中,在所述頂壁的內(nèi)側(cè)上設(shè)置有透明的保護(hù)蓋,所述保護(hù)蓋至少保護(hù)所述透明部分。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的流反應(yīng)器,其中,所述流反應(yīng)器進(jìn)一步包括至少一個(gè)照射源,所述至少一個(gè)照射源被構(gòu)造成通過所述透明部分照射所述處理通道內(nèi)側(cè)的材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的流反應(yīng)器,其中,所述流反應(yīng)器進(jìn)一步包括與所述處理通道熱連接的熱交換器(17)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的流反應(yīng)器,其中,所述底壁由導(dǎo)熱材料制成,所述底壁是所述熱交換器的一部分。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的流反應(yīng)器,其中,所述底壁設(shè)置有被構(gòu)造成使流體流通通過的多個(gè)通道。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的流反應(yīng)器,其中,所述熱交換器進(jìn)一步包括至少一個(gè)熱控制的支撐元件,所述支撐元件被構(gòu)造成在所述底壁與所述支撐元件熱接觸時(shí)支撐所述處理通道。
13.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的流反應(yīng)器,其中,所述側(cè)壁中的至少一個(gè)包括多個(gè)偏轉(zhuǎn)器(16),所述偏轉(zhuǎn)器元件被構(gòu)造成使所述脈動(dòng)流局部地偏轉(zhuǎn)。
14.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的流反應(yīng)器,其中,所述處理通道的至少所述頂壁可移除地附接到所述處理通道的所述側(cè)壁和所述端壁。
15.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的流反應(yīng)器,其中,所述頂壁、所述底壁、所述側(cè)壁、所述第一端壁、所述第二端壁和所述混合元件中的一個(gè)或更多個(gè)設(shè)置有涂層。
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