[發(fā)明專利]壓制燒結(jié)工藝產(chǎn)品載體、壓制燒結(jié)設(shè)備和壓制燒結(jié)工藝

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980040001.X
• 申請(qǐng)日: 2019-06-14
• 公開（公告）號(hào): CN112351846B
• 公開（公告）日: 2023-08-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 約翰內(nèi)斯·科內(nèi)利斯·德北爾;弗蘭克·波斯科曼
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 波斯科曼技術(shù)公司
• 主分類號(hào): B22F3/10
• 分類號(hào): B22F3/10;F27D5/00
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國(guó);吳啟超

1.一種用于載送將在壓制燒結(jié)工藝中燒結(jié)的至少一個(gè)產(chǎn)品(P)的壓制燒結(jié)工藝產(chǎn)品載體(100)，所述產(chǎn)品載體包括

-頂部(110)；

-產(chǎn)品接納凹陷部(120)，所述產(chǎn)品接納凹陷部限定在所述頂部中，并且被構(gòu)造為用于在其中接納所述產(chǎn)品和用于在所述產(chǎn)品接納凹陷部的凹陷底部(125)上載送所述產(chǎn)品；

-頂部表面(130)，所述頂部表面包圍所述產(chǎn)品接納凹陷部；

-固持凹槽(140)和真空連接(145)，所述固持凹槽設(shè)置在所述頂部表面中并包圍所述產(chǎn)品接納凹陷部，所述真空連接與所述固持凹槽流體連接以允許在所述固持凹槽中提供真空來用于固持設(shè)置在所述產(chǎn)品接納凹陷部和所述固持凹槽上方的柔性覆蓋物；和

-凹陷氣體入口(150)和凹陷氣體出口(160)，所述凹陷氣體入口布置在所述產(chǎn)品接納凹陷部中來用于將氣體引入到所述產(chǎn)品接納凹陷部中，所述凹陷氣體出口布置在所述產(chǎn)品接納凹陷部中來用于從所述產(chǎn)品接納凹陷部提取氣體以允許提供從所述凹陷氣體入口到所述凹陷氣體出口的氣體流來用于沖洗所述產(chǎn)品接納凹陷部。

2.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品載體，其中所述頂部表面(130)是平面的。

3.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品載體，其中所述頂部表面(130)完全地包圍所述產(chǎn)品接納凹陷部(120)。

4.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品載體，其中所述固持凹槽(140)完全地包圍所述產(chǎn)品接納凹陷部(120)。

5.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品載體，其中所述凹陷氣體入口(150)設(shè)置在所述產(chǎn)品接納凹陷部(120)的第一側(cè)(121)處，并且所述凹陷氣體出口(160)設(shè)置在所述產(chǎn)品接納凹陷部的第二側(cè)(122)處，所述第二側(cè)與所述第一側(cè)對(duì)置。

6.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品載體，其中所述凹陷氣體入口(150)包括沿著所述產(chǎn)品接納凹陷部(120)的側(cè)面分布的多個(gè)氣體入口開口(151)，所述氣體入口開口被布置為用于在使用時(shí)在載送在所述凹陷底部(125)上的所述產(chǎn)品(P)的方向上提供來自所述氣體入口開口的氣體出流。

7.如權(quán)利要求6所述的產(chǎn)品載體，其中所述多個(gè)氣體入口開口(151)被構(gòu)造為在使用時(shí)提供氣體層流。

8.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品載體，其中所述凹陷氣體出口(160)包括沿著所述產(chǎn)品接納凹陷部(120)的側(cè)面分布的多個(gè)氣體出口開口(161)。

9.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品載體，其中所述凹陷氣體出口(160)在使用時(shí)相對(duì)于水平平面設(shè)置在比所述凹陷氣體入口(150)低的水平。

10.如權(quán)利要求9所述的產(chǎn)品載體，其中所述產(chǎn)品載體還包括附加凹陷部(126)，所述附加凹陷部(126)設(shè)置在所述產(chǎn)品接納凹陷部(120)的設(shè)置有所述凹陷氣體出口(160)的側(cè)面處的所述凹陷底部(125)中。

11.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品載體，其中所述真空連接(145)設(shè)置在所述產(chǎn)品載體(100)上的位置處，使得如沿著所述產(chǎn)品載體的外表面所見，所述固持凹槽(140)介于所述產(chǎn)品接納凹陷部(120)與所述真空連接之間。

12.如權(quán)利要求11所述的產(chǎn)品載體，其中所述真空連接設(shè)置在所述產(chǎn)品載體的側(cè)表面(101)上。

13.如權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品載體，其中所述產(chǎn)品載體(100)包括用于連接到氣體源的第一氣體連接(155)，所述第一氣體連接與所述凹陷氣體入口(150)流體連接并設(shè)置在所述產(chǎn)品載體上的位置處，使得如沿著所述產(chǎn)品載體的外表面所見，所述固持凹槽(140)介于所述產(chǎn)品接納凹陷部(120)與所述第一氣體連接之間。

14.如權(quán)利要求13所述的產(chǎn)品載體，其中所述第一氣體連接設(shè)置在所述產(chǎn)品載體的側(cè)表面(101)上。