[發明專利]清潔劑

在審

• 申請號: 201980038308.6
• 申請日: 2019-06-10
• 公開（公告）號: CN112292114A
• 公開（公告）日: 2021-01-29
• 發明（設計）人: 山崎直幸
• 申請（專利權）人: 花王株式會社
• 主分類號: A61K8/898
• 分類號: A61K8/898;A61K8/362;A61K8/365;A61K8/39;A61K8/46;A61Q5/02;C11D1/37;C11D1/83;C11D1/94;C11D3/20;C11D3/37
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;沈央

1.一種清潔劑，其中，

所述清潔劑含有以下成分：

(A)陰離子表面活性劑；

(B)滿足下述式(I)的含有聚氧化烯結構的氨基聚醚改性硅酮：

0.01≦Si/AO≦1.6(I)

式(I)中，Si表示成分(B)中的硅原子的摩爾數，AO表示成分(B)中的氧化烯烴平均加成摩爾數；及

(C)有機酸，且

成分(A)與成分(B)的質量比(A)/(B)為25以上，

成分(A)與成分(C)的質量比(A)/(C)為1以上3000以下。

2.一種清潔劑，其中，

所述清潔劑配合以下成分而成：

(A)陰離子表面活性劑；

(B)滿足下述式(I)的含有聚氧化烯結構的氨基聚醚改性硅酮：

0.01≦Si/AO≦1.6(I)

式(I)中，Si表示成分(B)中的硅原子的摩爾數，AO表示成分(B)中的氧化烯烴平均加成摩爾數；及

(C)有機酸，且

成分(A)與成分(B)的質量比(A)/(B)為25以上，

成分(A)與成分(C)的質量比(A)/(C)為1以上3000以下。

3.如權利要求1或2所述的清潔劑，其中，

所述成分(B)具有下述通式(1)所表示的重復單元：

式(1)中，R¹表示氫原子或碳原子數1以上6以下的一價烴基；R²表示R¹或E中的任一者；E表示-R³-Z所表示的一價基團，其中，R³表示單鍵、或碳原子數1以上20以下的二價烴基，Z表示含伯～叔氨基的基團；Y表示碳原子數1以上6以下的亞烷基；a表示2以上的數，b表示1以上的數，c表示4以上100以下的數，d表示1以上的數；n表示2以上10以下的數；括號內的結構單元彼此的鍵合順序并無限定，鍵合方式為嵌段狀或無規狀；c個C_nH_2nO相同或不同；另外，多個R¹、R²及E相同或不同。

4.如權利要求1～3中任一項所述的清潔劑，其中，

所述成分(C)為選自具有羥基的一元羧酸、及具有或不具有羥基的多元羧酸中的1種以上。

5.如權利要求1～4中任一項所述的清潔劑，其中，

所述清潔劑進而含有或配合所述成分(B)以外的硅酮作為成分(B)'而成。

6.如權利要求5所述的清潔劑，其中，

所述成分(B)'為選自所述成分(B)以外的氨基聚醚改性硅酮、氨基改性硅酮、聚醚改性硅酮、二甲基聚硅氧烷、甲基苯基聚硅氧烷、脂肪酸改性硅酮、烷氧基改性硅酮及烷基改性硅酮中的1種以上。

7.如權利要求1～6中任一項所述的清潔劑，其中，

所述清潔劑進而含有或配合陽離子性聚合物作為成分(D)而成。

8.如權利要求1～7中任一項所述的清潔劑，其中，

所述清潔劑進而含有或配合兩性表面活性劑作為成分(E)而成。

9.如權利要求1～8中任一項所述的清潔劑，其中，

所述清潔劑進而含有或配合非離子表面活性劑作為成分(F)而成。

10.如權利要求1～9中任一項所述的清潔劑，其中，

所述成分(A)的含量或配合量為1質量％以上30質量％以下。

11.如權利要求1～10中任一項所述的清潔劑，其中，

所述清潔劑為毛發清潔劑。