[發(fā)明專利]衍射光學(xué)元件、投影裝置及計測裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980038280.6
• 申請日: 2019-06-06
• 公開（公告）號: CN112236694B
• 公開（公告）日: 2022-09-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 村上亮太;中山元志
• 申請（專利權(quán)）人: AGC株式會社
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G01B11/25;G02B1/115
• 代理公司: 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 楊青;安翔

1.一種衍射光學(xué)元件，具備：

基材；

凹凸部，設(shè)置于所述基材的一個面上，相對于入射光顯現(xiàn)規(guī)定的衍射作用；及

反射防止層，配備于所述基材與所述凹凸部之間，

構(gòu)成所述凹凸部的凸部的第一介質(zhì)和構(gòu)成所述凹凸部的凹部的第二介質(zhì)在所述入射光的波段中的有效折射率差Δn為0.70以上，

在所述入射光從所述基材的法線方向入射時從所述凹凸部出射的衍射光的出射角度范圍θ_out為60°以上，

所述入射光的波段中的相對于向所述凹凸部入射的總光量的從所述凹凸部向規(guī)定的投影面照射的設(shè)計級數(shù)的衍射光的光量的比例即綜合效率為65％以上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的衍射光學(xué)元件，

所述第二介質(zhì)是空氣，

所述第一介質(zhì)在所述入射光的波段中的有效折射率為1.70以上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的衍射光學(xué)元件，

所述第一介質(zhì)是由折射率不同的2種以上的材料構(gòu)成的2層以上的多層膜，

所述凸部中的最上層由構(gòu)成所述多層膜的構(gòu)件中的低折射率材料構(gòu)成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的衍射光學(xué)元件，

所述Δn及所述θ_out滿足Δn/sin(θ_out/2)≥1.0。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的衍射光學(xué)元件，

所述入射光的波段中的所述凹凸部中的0級效率小于3.0％，

所述入射光的波段中的從所述凹凸部向所述出射角度范圍內(nèi)出射的衍射光相對于向所述凹凸部入射的總光量的綜合效率為65％以上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的衍射光學(xué)元件，

所述入射光的波段中的0級光的光量相對于從所述凹凸部出射的光的總光量小于1.0％。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的衍射光學(xué)元件，

所述出射角度范圍小于140°，

所述入射光的波段中的所述凹凸部中的0級效率小于0.5％，

所述入射光的波段中的從所述凹凸部向所述出射角度范圍內(nèi)出射的衍射光相對于向所述凹凸部入射的總光量的綜合效率為70％以上。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的衍射光學(xué)元件，

所述第一介質(zhì)全部由無機材料構(gòu)成。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的衍射光學(xué)元件，

至少在所述凹部與所述反射防止層之間具備由與構(gòu)成所述凸部的最下層的構(gòu)件相同的構(gòu)件構(gòu)成的基部。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的衍射光學(xué)元件，

所述反射防止層是電介質(zhì)多層膜，并且對于相對于所述基材的法線方向以所述出射角度范圍的1/4的角度從元件出射的所述入射光的波段的至少特定的偏振光的反射率為0.5％以下。

11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的衍射光學(xué)元件，

所述反射防止層對于相對于所述基材的法線方向以40°以內(nèi)向該反射防止層入射的所述入射光的波段的至少特定的偏振光的反射率為0.5％以下。

12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的衍射光學(xué)元件,

所述入射光是波長700nm～1200nm中的至少一部分波段的光，

所述反射防止層對于相對于所述基材的法線方向以20°以內(nèi)向該反射防止層入射的波長360～370nm的至少特定的偏振光的反射率為1.0％以下。

13.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的衍射光學(xué)元件，

在所述基材的與設(shè)置有所述凹凸部的一側(cè)相反一側(cè)的表面上具備第二反射防止層。