[發(fā)明專利]用于流化裝置的入流基底

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980037420.8
• 申請日: 2019-05-20
• 公開（公告）號: CN112566716B
• 公開（公告）日: 2023-03-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: D·齊默曼
• 申請（專利權(quán)）人: 戈拉特有限公司
• 主分類號: B01J2/16
• 分類號: B01J2/16;B01J8/44
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 梁敬;司昆明

本發(fā)明涉及一種對于工藝空氣來說可通過的入流基底（2），其具有用于流過入流基底（2）的工藝空氣的開口（18），其中入流基底（2）圍繞流化裝置（1）的軸線Z可轉(zhuǎn)動地布置在流化裝置（1）中并且將流化裝置劃分為分配腔（19）和渦流腔（3），其特征在于，流化裝置（1）的入流基底（2）具有至少一個第一和第二入流基底板（12a、12b、12c），其中所述入流基底板（12a、12b、12c）中的一個入流基底板在其外部的端部（17）上具有或構(gòu)造出密封元件（16）。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種對于工藝空氣來說可通過的入流基底，其具有用于流過入流基底的工藝空氣的開口，其中入流基底圍繞流化裝置的軸線可轉(zhuǎn)動地布置在流化裝置中并且將流化裝置劃分為分配腔和渦流腔。

背景技術(shù)

入流基底對于流化裝置、尤其經(jīng)典的渦流層裝置來說已經(jīng)是現(xiàn)有技術(shù)。在兩個國際專利申請WO 2014/161525 A2和WO 2014/117577 A1中公開了連續(xù)工作的渦流層裝置，其中入流基底可轉(zhuǎn)動地布置在渦流層裝置中。迄今為止，在尤其連續(xù)運行的流化裝置中，可轉(zhuǎn)動的入流基底在一定程度上精確地制成，從而在入流基底和流化裝置的外壁之間出現(xiàn)的環(huán)形間隙具有最小的間隙寬度。根據(jù)迷宮原理作用的密封機構(gòu)是需要的，因為否則工藝空氣不會流過入流基底的開口，而是流過之前提到的在入流基底和流化裝置的外壁之間的環(huán)形間隙。

在現(xiàn)有技術(shù)中示出的技術(shù)解決方案中不利的是，所述解決方案在制造流化裝置的各個構(gòu)件時、基于尤其入流基底和流化裝置的與入流基底相鄰的外壁的很小的制造公差而需要高的制造費用和大的精密性，而不用在足夠的程度中密封出現(xiàn)的環(huán)形間隙。此外，迄今為止使用的密封機構(gòu)具有以下缺點，即該密封機構(gòu)示出構(gòu)件的非常高的磨損。

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明的任務在于，提供用于流化裝置的入流基底，該入流基底更好地密封入流基底和流化裝置的外壁之間的環(huán)形間隙，并且因此克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點。

該任務在對于工藝空氣來說可通過的入流基底中以如下方式解決，即流化裝置的入流基底具有至少一個第一和第二入流基底板，所述入流基底板中的一個入流基底板在其外部的端部上具有或構(gòu)造出密封元件。有利地，通過根據(jù)本發(fā)明的入流基底實現(xiàn)最佳地密封入流基底或入流基底板的外部的端部和流化裝置的外壁的內(nèi)壁之間的環(huán)形間隙。此外，通過更好地密封環(huán)形間隙而實現(xiàn)的是，與現(xiàn)有技術(shù)相比更多的工藝空氣流過入流基底本身，由此改進待處理的材料、尤其待處理的顆粒或粒子的流化。此外可能的是，在制造入流基底或入流基底的各個入流基底板時，基于與流化裝置的常規(guī)的入流基底相比更大的制造公差，簡化了各個構(gòu)件的制造，并且因此進一步優(yōu)化了制造過程。此外有利地，可以有利地將其他的構(gòu)件、例如能夠?qū)⒋幚淼牟牧虾唵蔚剡\輸?shù)搅骰b置中的構(gòu)件連接到流化裝置上。

優(yōu)選地，流化裝置的入流基底包括三個入流基底板。按照根據(jù)本發(fā)明的入流基底的優(yōu)選的實施方式，最下方的入流基底板（其也被稱為入流基底的下基底）具有兩個功能：一方面，入流基底的大多由鋼或不銹鋼制成的最下方的入流基底板用作針對中間的入流基底板的支架，即中間的入流基底板布置在下方的入流基底板上，并且與其連接，另一方面，優(yōu)選由PTFE或與其類似的材料制成的中間的入流基底板通過下基底穩(wěn)定。上方的入流基底板相反地具有加重中間的入流基底板的功能，從而中間的入流基底板不會被流過入流基底的工藝空氣抬升和分離，并且工藝空氣在入流基底板旁邊流過，而是工藝空氣流過根據(jù)本發(fā)明的入流基底的所有三個入流基底板。

特別優(yōu)選地，密封元件布置或構(gòu)造在其中一個入流基底板的外部的端部上的周邊的范圍內(nèi)。圍繞入流基底板中的一個入流基底板的整個周邊布置的密封元件改進入流基底相對于流化裝置的外壁的密封。