[發明專利]利用模型基礎對準來改善邊緣放置量測準確度

在審

• 申請號: 201980037249.0
• 申請日: 2019-05-14
• 公開（公告）號: CN112236723A
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發明（設計）人: 王禎祥;趙謙;郭蘊博;盧彥文;馮牧;張強
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王益

1.一種用于改善用于圖案化過程的過程模型的方法，所述方法包括：

獲得a)來自圖像捕獲裝置的測量輪廓，和b)從所述過程模型的模擬所產生的模擬輪廓；

通過確定所述測量輪廓與所述模擬輪廓之間的偏移使所述測量輪廓與所述模擬輪廓對準；以及

校準所述過程模型以減小所述模擬輪廓與所述測量輪廓之間的基于所確定的偏移而計算出的差。

2.根據權利要求1所述的方法，其中基于大致限定所述測量輪廓的一部分的測量坐標進一步確定所述偏移。

3.根據權利要求2所述的方法，其中基于所述測量坐標與所述模擬輪廓之間的距離進一步確定所述偏移，所述距離是沿著在所述測量坐標處位于垂直于所述測量輪廓的方向上的距離；和/或

其中所述對準還包括減小基于所述距離而計算出的成本函數。

4.根據權利要求1所述的方法，還包括在所述測量輪廓上產生邊緣放置(EP)坐標，并且其中基于所述EP坐標進一步確定所述偏移。

5.根據權利要求4所述的方法，其中通過在兩個或更多個測量坐標之間插值處理而產生所述EP坐標；和/或

其中通過從兩個或更多個測量坐標外推而產生所述EP坐標。

6.根據權利要求1所述的方法，所述校準還包括修改所述過程模型的特征以減小所述差，所述修改引起所述模擬輪廓的形狀的改變。

7.根據權利要求1所述的方法，其中基于來自多個測量圖像的測量圖像中的像素的強度的改變來識別所述測量輪廓。

8.根據權利要求7所述的方法，其中基于所述改變超過灰階閾值進行所述識別。

9.根據權利要求1所述的方法，還包括：

從圖形數據庫系統(GDS)多邊形獲得所述模擬輪廓；和

將包括所述測量輪廓的邊緣放置坐標或測量坐標轉換成GDS坐標。

10.根據權利要求9所述的方法，其中所述GDS多邊形能夠呈選自GDS流格式(GDSII)和開放式原圖系統交換標準(OASIS)中的一種或更多種格式。

11.根據權利要求1所述的方法，還包括：

基于對OPC模型的模擬獲得所述模擬輪廓，其中所述OPC模型是包括光學模型且不包括抗蝕劑模型的初步模型。

12.根據權利要求1所述的方法，還包括：

利用包括光學模型和抗蝕劑模型的初步模型獲得初始模擬輪廓；

修改所述抗蝕劑模型的特征以減小所述初始模擬輪廓與所述測量輪廓之間的所述差。

13.根據權利要求1所述的方法，其中所述圖像捕獲裝置是掃描電子顯微鏡。

14.根據權利要求7所述的方法，其中所述圖像捕獲裝置是電子束檢查系統；和/或

其中所述電子束檢查系統具有大視場，并且至少部分地從所述大視場內獲得所述多個測量圖像。

15.一種計算機程序產品，包括非暫時性計算機可讀介質，所述非暫時性計算機可讀介質中記錄有在由計算機執行時實施權利要求1所述的方法的指令。