[發(fā)明專利]用于角膜生物力學(xué)響應(yīng)的體內(nèi)測量的設(shè)備和方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980037163.8
• 申請日: 2019-06-04
• 公開（公告）號: CN112236072A
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 史蒂文·詹姆斯·弗里斯肯;格蘭特·安德魯·弗里斯肯;特雷弗·布魯斯·安德森
• 申請（專利權(quán)）人: 賽萊特私人有限公司
• 主分類號: A61B3/10
• 分類號: A61B3/10
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 杜升

1.一種用于測量角膜的一種或多種特性的設(shè)備，所述設(shè)備包括：

第一光學(xué)系統(tǒng)，包括光源和空間采樣元件，用于產(chǎn)生配置為同時入射角膜的前表面的至少一部分的子光束的會聚陣列；和

第二光學(xué)系統(tǒng)，用于：

捕獲來自所述前表面的反射光或散射光以及來自所述角膜的第二表面或界面的反射光或散射光；

測量被所述子光束照射的所述角膜的部分中來自所述前表面的反射光或散射光和來自所述第二表面或界面的反射光或散射光之間的相對相位；和

隨時間監(jiān)測所述相對相位以獲得關(guān)于被照射部分中所述角膜的一種或多種特性的信息。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備配置為使得在使用中，所述子光束在所述前表面上的入射角處于垂直入射的3度以內(nèi)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述空間采樣元件包括小透鏡陣列。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的設(shè)備，其中，來自所述前表面和來自所述第二表面或界面的反射光或散射光由所述空間采樣元件捕獲。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的設(shè)備，其中，來自所述前表面和來自所述第二表面或界面的反射光或散射光由第二空間采樣元件捕獲。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備包括處理器，所述處理器用于：

由所述相對相位的測量，生成所述角膜的所述被照射部分中的相對相位的圖；和

隨時間監(jiān)測所述相對相位以確定所述圖中的時間變化。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備包括干涉儀，用于使用參考光束干涉來自所述前表面和來自所述第二表面或界面的反射光或散射光，以產(chǎn)生一個或多個干涉圖。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備，其中，所述處理器配置為利用所述一個或多個干涉圖跟蹤所述子光束在所述前表面上的位置，以配準(zhǔn)在不同時間獲取的兩個或更多個相對相位的圖。

9.根據(jù)權(quán)利要求6至8中任一項所述的設(shè)備，其中，所述光源包括多波長光源，并且其中所述處理器配置為由所述相對相位的圖計算所述角膜的斷層掃描分布。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中，所述斷層掃描分布包括所述前表面與所述第二表面或界面之間的振幅、相位或光路長度中的一種或多種。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中，所述第二表面或界面包括所述角膜的后表面，使得所述光路長度包括角膜厚度的測量。

12.根據(jù)權(quán)利要求10或權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中，所述處理器配置為由所述光路長度中的時間變化確定所述角膜對眼內(nèi)壓與所述角膜上的外壓之間的相對差異的生物力學(xué)響應(yīng)。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其中，所述處理器配置為確定所述角膜對與眼脈動相關(guān)的周期性眼內(nèi)壓變化的生物力學(xué)響應(yīng)。

14.根據(jù)權(quán)利要求12或權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備配置為改變所述角膜上的所述外壓。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備配置為通過施加分布式聲波源或通過改變所述角膜處的環(huán)境壓力來改變所述外壓。

16.根據(jù)權(quán)利要求10或權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中，所述處理器配置為由所述光路長度中的時間變化確定所述角膜對由以下一種或多種施加的擾動的生物力學(xué)響應(yīng)：吹氣源；超聲源；或聲輻射壓力源。

17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備配置為測量所述角膜上淚膜的厚度的時間變化。