[發明專利]用于工件的曝光后烘烤加工的方法和裝置

在審

• 申請號: 201980034006.1
• 申請日: 2019-05-03
• 公開（公告）號: CN112204470A
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發明（設計）人: 楊曉晅
• 申請（專利權）人: 瑪特森技術公司;北京屹唐半導體科技有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;G03F7/40;G03F7/20;H01L21/67;H01L21/027;H01L21/324
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務所 11313
• 代理人: 王艷波;林軍

1.一種用于加工工件的方法，所述方法包括：

將具有光刻膠層的工件放置在工件支撐體上，所述工件支撐體設置在加工室內；

通過光掩模使所述光刻膠曝光于具有一定波長的光子；

對具有所述光刻膠層的所述工件進行曝光后烘烤加熱過程，其中，所述曝光后烘烤加熱過程包括利用設置在所述工件支撐體中的輻射熱源和第二熱源兩者來加熱所述工件，直到所述工件的溫度達到曝光后烘烤設定點溫度。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述曝光后烘烤加熱過程在小于約15秒的時間內將所述工件加熱到大約所述曝光后烘烤設定點溫度。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述曝光后烘烤加熱過程在小于約5秒的時間內將所述工件加熱至大約所述曝光后烘烤設定點溫度。

4.根據權利要求1所述的方法，還包括：一旦所述工件達到所述曝光后烘烤設定點溫度，則將所述一個或多個輻射熱源斷電，同時保持所述第二熱源對所述工件的加熱。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，所述曝光后烘烤設定點溫度在大約60℃至大約150℃之間。

6.根據權利要求1所述的方法，其中，所述輻射熱源包括一個或多個白熾燈。

7.根據權利要求1所述的方法，其中，在所述曝光后烘烤加熱過程中，在所述輻射熱源與所述工件之間放置濾波器，所述濾波器對于具有所述波長的光子的透射是至少部分地不透光的。

8.根據權利要求1所述的方法，其中，所述輻射熱源包括一個或多個發光二極管。

9.根據權利要求1所述的方法，其中，所述第二熱源包括設置在所述工件支撐體中的一個或多個電阻加熱元件。

10.根據權利要求1所述的方法，其中，所述第二熱源包括設置在所述工件支撐體中的一個或多個基于流體的加熱元件。

11.根據權利要求10所述的方法，其中，所述第二熱源中的所述一個或多個基于流體的加熱元件與熱交換器流體連通，并且在所述曝光后烘烤加熱過程中，流體在所述第二熱源中的所述一個或多個基于流體的加熱元件與所述熱交換器之間循環。

12.根據權利要求11所述的方法，其中，所述流體是包括水、油和二醇中的一種或多種的工作液體流體。

13.根據權利要求1所述的方法，其中，所述光刻膠層是化學增幅型抗蝕劑層。

14.一種用于加工工件的方法，所述方法包括：

通過光掩模使工件上的光刻膠層曝光于具有一定波長的光子；

將具有所述光刻膠層的所述工件放置在設置于加工室內的工件支撐體上，所述工件支撐體包括一個或多個基于流體的加熱元件；

在大約曝光后烘烤設定點溫度下，對包括所述基于流體的加熱元件的所述工件支撐體上的所述工件上的所述光刻膠層進行曝光后烘烤加熱過程。

15.根據權利要求14所述的方法，其中，所述工件支撐體中的所述基于流體的加熱元件與熱交換器流體連通，并且在所述曝光后烘烤加熱過程中，流體在所述工件支撐體中的所述一個或多個基于流體的加熱元件與所述熱交換器之間循環。

16.根據權利要求14所述的方法，其中，所述流體是包括水、油和二醇中的一種或多種的工作液體流體。

17.根據權利要求14所述的方法，其中，所述曝光后烘烤設定點溫度在大約60℃至大約150℃的范圍內。