[發明專利]用于涂布基材的連續式設備與方法

在審

• 申請號: 201980033337.3
• 申請日: 2019-04-04
• 公開（公告）號: CN112236544A
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發明（設計）人: 伯恩哈德·科德;邁克爾·賴斯;迪特爾·謝爾格;托爾斯滕·迪佩爾;弗蘭克·梅;彼得·沃爾法特;奧利弗·霍恩
• 申請（專利權）人: 新格拉斯科技集團
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C16/34;C23C16/54;H01L21/02;H01L21/67;H01L21/677
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;吳啟超

1.一種用于涂布基材(103)的連續式設備(100)，包括：

一個處理模塊(130；130a、130b；130a、130b、130c)或多個處理模塊(130a、130b；130a、130b、130c)；和

用于將所述基材(103)隔離在內或用于將所述基材(103)隔離在外的真空隔離室(10；110、150)，其中所述真空隔離室(10；110、150)包括：

用于接收具有多個基材(103)的基材載體(102)的腔室(30)，以及

用于抽空并填充所述腔室(30)的流體通道配置(51、52、56、57；111、112)，其中所述流體通道配置(51、52、56、57；111、112)包括：用于抽空并填充所述腔室(30)的第一通道(51；111)和用于抽空并填充所述腔室(30)的第二通道(52；112)，其中所述第一通道(51；111)和所述第二通道(52；112)被配置在所述腔室(30)的相對側上。

2.如權利要求1所述的連續式設備(100)，其中至少一個處理模塊(130；130a、130b；130a、130b、130c)包括等離子體源、用于通過分離的氣體分配件供應多種處理氣體的氣體供應裝置和用于抽吸所述處理氣體的至少一個氣體抽吸裝置。

3.如權利要求2所述的連續式設備(100)，其中具有所述等離子體源的所述至少一個處理模塊(130；130a、130b；130a、130b、130c)包括：第一氣體抽吸裝置和第二氣體抽吸裝置，所述第一氣體抽吸裝置的抽吸開口沿著所述基材(103)的輸送方向(101)配置在所述等離子體源上游，所述第二氣體抽吸裝置的抽吸開口沿著所述輸送方向配置在所述等離子體源下游。

4.如權利要求2或權利要求3所述的連續式設備(100)，其中所述等離子體源和所述氣體供應裝置組合在設備部件中，所述設備部件可作為模塊從所述連續式設備拆卸。

5.如權利要求1所述的連續式設備(100)，還包括：

傳送裝置，用于連續傳送一系列基材載體(102)通過所述連續式設備(100)的至少一個部分，和

轉移模塊(120,140)，用于在所述真空隔離室(10；110、150)和所述傳送裝置之間轉移所述基材載體(102)，其中，所述轉移模塊(120、140)配置在所述真空隔離室(10；110、150)和所述處理模塊(130；130a、130b；130a、130b、130c)或所述處理模塊(130a,130b；130a,130b,130c)之間。

6.如權利要求5所述的連續式設備(100)，其中所述轉移模塊(102)包括溫度調節裝置(121、122)，其中可選地，所述溫度調節裝置(121、122)包括加熱裝置，以從兩側加熱所述基材(103)。

7.如權利要求5或權利要求6所述的連續式設備(100)，其中

所述真空隔離室(10；110、150)是用于將所述基材(103)隔離在內的真空隔離室(10；110)，且

所述連續式設備(100)還包括：用于將所述基材(103)隔離在外的第二真空隔離室(10；150)，其中所述第二真空隔離室(10；150)包括：

用于接收所述基材載體(102)的第二腔室(30)，以及

用于抽空并填充所述第二腔室(30)的第二流體通道配置(51、52、56、57；111、112)，其中所述第二流體通道配置(51、52、56、57；111、112)包括用于抽空并填充所述第二腔室(30)的第三通道和用于抽空并填充所述第二腔室(30)的第四通道，其中所述第三通道和所述第四通道配置于所述第二腔室(30)的相對側上。

8.如權利要求7所述的連續式設備(100)，其中所述連續式設備(100)還包括：

第二轉移模塊(140)，用于將所述基材載體(102)從所述傳送裝置轉移到所述不連續工作的第二真空隔離室(150)。