[發明專利]用于磁共振裝置的勻場鐵

在審

• 申請號: 201980031451.2
• 申請日: 2019-04-02
• 公開（公告）號: CN112105941A
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發明（設計）人: P·韋爾尼科爾;I·施馬勒;O·利普斯
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: G01R33/3873
• 分類號: G01R33/3873
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 孟杰雄

1.一種與磁共振(MR)裝置(10)一起使用的勻場鐵(130)，

其中，所述勻場鐵(130)包括勻場板(131、132、133、134、135)的堆疊，

其中，所述勻場板(131、132、133、134、135)中的至少兩個包括狹縫，所述狹縫形成狹縫勻場板(131、132、133、134、135)的各個狹縫圖案，并且

其中，所述堆疊中的相繼的勻場板的所述狹縫中的至少一些具有不同的取向。

2.根據權利要求1所述的勻場鐵，其中，所述勻場板中的至少兩個具有不同的勻場圖案，所述勻場圖案針對跨所述板的形狀旋轉對稱角度的平面內旋轉是不全等的。

3.根據權利要求1所述勻場鐵，其中，所述勻場板具有狹縫圖案，所述狹縫圖案相對于較所述板的形狀平面內旋轉對稱軸存在偏移的所述狹縫圖案的旋轉軸具有平面內旋轉對稱性。

4.根據權利要求3所述的勻場鐵(130)，其中，所述狹縫圖案相對于所述勻場板的形狀的更多對稱軸中的一個是非對稱的。

5.根據權利要求1或2所述的勻場鐵(130)，其中，所述狹縫圖案獨立于觀看方向包括至少兩個不同的狹縫圖案，其中，能夠不使所述至少兩個不同的狹縫圖案相互全等覆蓋。

6.根據權利要求5所述的勻場鐵(130)，其中，所有狹縫圖案包括相同數量的直狹縫，所述直狹縫具有相同的相對于彼此的角度，其中，通過第一勻場板(131、132、133、134、135)的所述狹縫圖案的每個狹縫的整數次的非有理旋轉給出第二勻場板(131、132、133、134、135)的所述狹縫圖案的所述狹縫的所述取向。

7.根據權利要求5或6所述的勻場鐵(130)，其中，所述狹縫圖案在從相同的觀看方向來觀看時全部互不相同。

8.一種具有多個容納格(120)的勻場軌(11)，其中，至少一個容納格(120)包括根據前述權利要求中的任一項所述的勻場鐵(130)。

9.一種具有用于容納要檢查的對象的膛以及圍繞所述膛的場生成單元(100)的MRI裝置(10)，其中，所述場生成單元(100)包括平行于所述膛的縱軸延伸的多個開口(110)，并且其中，所述多個開口(110)中的至少一個包括根據權利要求8所述的勻場軌(111)。

10.一種利用至少一個勻場鐵(130)對MRI裝置(10)進行勻場的方法，包括下述方法步驟：

提供勻場板(131、132、133、134、135)中的至少兩個，所述勻場板包括狹縫，所述狹縫形成狹縫勻場板(131、132、133、134、135)的各個狹縫圖案，并且

以所述堆疊中的相繼勻場板的狹縫中的至少一些具有不同取向的方式對所述至少兩個勻場板(131、132、133、134、135)進行堆疊來組裝所述至少一個勻場鐵(130)，并且

將所述至少一個勻場鐵(130)安裝到所述MRI裝置(10)內，從而對所述MRI裝置(10)勻場。

11.根據權利要求10所述的方法，其包括額外的方法步驟：

以相繼勻場板(131、132、133、134、135)不相互全等覆蓋的方式將至少另一個勻場板(131、132、133、134、135)堆疊到所述至少兩個勻場板(131、132、133、134、135)上來組裝所述至少一個勻場鐵(130)。

12.一種制造用于將在MRI裝置(10)中使用的勻場鐵(130)的勻場板(131、132、133、134、135)的方法，其包括下述步驟：

提供第一無狹縫勻場板，

利用包括預定數量的直狹縫的狹縫圖案對所述第一無狹縫勻場板設置狹縫，所述直狹縫具有相對于彼此的預定相對角度，

提供第二無狹縫勻場板，

利用包括與所述第一勻場板(131、132、133、134、135)相同的預定數量的直狹縫的狹縫圖案對所述第二無狹縫勻場板設置狹縫，所述直狹縫具有與所述第一勻場板(131、132、133、134、135)相同的相對于彼此的預定相對角度，其中，通過所述第一勻場板(131、132、133、134、135)的所述狹縫圖案的每個狹縫的整數次的非有理旋轉給出所述第二勻場板(131、132、133、134、135)的所述狹縫圖案的所述狹縫的所述取向。