[發(fā)明專利]熒光X射線分析系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980030119.4
• 申請日: 2019-03-28
• 公開（公告）號: CN112074728B
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發(fā)明（設計）人: 喜多廣明;栗田清逸
• 申請（專利權）人: 株式會社理學
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 北京瑞盟知識產(chǎn)權代理有限公司 11300
• 代理人: 劉昕;孟祥海

本發(fā)明提供一種能夠計算正確的測量時間的熒光X射線分析系統(tǒng)。通過對樣品的表面照射1次X射線所產(chǎn)生的熒光X射線對所述樣品進行分析，具有：作業(yè)執(zhí)行部，執(zhí)行表示處理條件的作業(yè)，處理條件是表示組合多個分析所需的動作而構成的測量條件的菜單與由該菜單所表示的測量條件所測量的樣品相關聯(lián)的條件；存儲部，使各動作所需要的時間與各動作預先關聯(lián)存儲；計算部，當生成了作業(yè)時，基于存儲部中存儲的時間，對每個作業(yè)計算直到該作業(yè)的執(zhí)行結束為止的時間；以及控制部，當作業(yè)被執(zhí)行時，使動作所需的時間與該動作重新關聯(lián)存儲在所述存儲部中，其中，當作業(yè)被執(zhí)行時，計算部還基于存儲部重新存儲的時間計算直到作業(yè)的執(zhí)行結束為止的時間。

技術領域

本發(fā)明涉及熒光X射線分析系統(tǒng)。

背景技術

在直到所指示的動作完成為止需要時間的裝置中，存在測量直到該動作結束為止的時間的裝置。

例如，專利文獻1公開了一種X射線分析裝置，在通過移動放置有樣品的平臺來僅測量樣品的特定區(qū)域的X射線分析裝置中，在存在多個移動路徑時，模擬測量時間變短的路徑。

專利文獻2公開了一種掃描電子顯微鏡，具有根據(jù)計算出的出現(xiàn)率和測定條件、異物或缺陷個數(shù)計算測量時間的功能。

專利文獻3公開了一種自動化學分析裝置，當輸入測量條件、測量開始的指示時，基于輸入數(shù)據(jù)顯示測量所需的時間及測量的剩余時間。

專利文獻4公開了一種測量機，根據(jù)給出了的測量條件自動計算并顯示直到測量完成為止的時間。

專利文獻5公開了一種X射線分析裝置，具備顯示部，該顯示部基于掃描模式、掃描范圍等輸入的測量條件，計算測量時間及測量結束預定時刻，并根據(jù)該計算出的結果顯示測量結束預定時刻。

現(xiàn)有技術文獻

專利文獻

專利文獻1:日本特開2012-189399號公報

專利文獻2:日本特開2001-338601號公報

專利文獻3:日本特開昭59-061779號公報

專利文獻4:日本特開平05-107051號公報

專利文獻5:日本特開昭63-08148號公報

發(fā)明內容

發(fā)明所要解決的課題

上述專利文獻1至5中記載的各裝置分別基于預先設定的時間來計算時間。因此，計算出的時間未考慮設備的個體差異、經(jīng)時變化，并非正確的時間。特別是在熒光X射線分析系統(tǒng)中，直到真空度達到一定值為止的時間等變化較大，無法高精度地計算測量時間。

本發(fā)明是鑒于上述課題而作出的，其目的在于提供一種熒光X射線分析系統(tǒng)，其能夠對每個熒光X射線分析系統(tǒng)計算反映了該熒光X射線分析系統(tǒng)的狀態(tài)的正確的測量時間。

用于解決課題的方案

技術方案1所述的熒光X射線分析系統(tǒng)，通過對樣品的表面照射1次X射線所產(chǎn)生的熒光X射線而對所述樣品進行分析，其特征在于，具有：作業(yè)執(zhí)行部，執(zhí)行表示處理條件的作業(yè)，所述處理條件是表示組合多個所述分析所需的動作而構成的測量條件的菜單與由該菜單(recipe)所表示的測量條件所測量的所述樣品相關聯(lián)的條件；存儲部，使各所述動作所需要的時間與各動作預先關聯(lián)存儲；計算部，當生成了所述作業(yè)時，基于所述存儲部中存儲的時間，對每個所述作業(yè)，計算直到該作業(yè)的執(zhí)行結束為止的時間，以及控制部，當所述作業(yè)被執(zhí)行時，使所述動作所需的時間與該動作重新關聯(lián)存儲在所述存儲部中，其中，當所述作業(yè)被執(zhí)行時，所述計算部還基于所述存儲部重新存儲的時間計算直到所述作業(yè)的執(zhí)行結束為止的時間。