[發明專利]基于陣列的表征工具

有效

• 申請號: 201980029659.0
• 申請日: 2019-04-30
• 公開（公告）號: CN112136070B
• 公開（公告）日: 2022-06-10
• 發明（設計）人: A·利普金德;A·羅森塔爾;F·基萊塞;J·格爾林;L·穆勞伊;R·海恩斯
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G02B21/00
• 分類號: G02B21/00;G02B21/36
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉麗楠

1.一種掃描電子顯微術SEM系統，其包括：

多個電子束源，其中所述電子束源中的至少一些電子束源經配置以產生初級電子束；及

電子光學柱陣列，其包括多個電子光學柱，其中所述多個電子光學柱中的電子光學柱包括多個電子光學元件，其中所述多個電子光學元件包含：

偏轉器層，其包含經配置以接收第一電壓的上部偏轉器及經配置以接收額外電壓的下部偏轉器，其中所述偏轉器層經配置以經由由所述多個電子光學柱中的至少一些電子光學柱共享的共同控制器驅動；及

修整偏轉器層，其包含經配置以接收第一修整電壓的上部修整偏轉器及經配置以接收額外修整電壓的下部修整偏轉器，其中所述修整偏轉器層經配置以由個別控制器驅動，

其中所述多個電子光學元件經布置以形成電子束通道，其中所述電子束通道經配置以將所述初級電子束引導到固定于載臺上的樣本，其中所述樣本響應于所述初級電子束而發射電子束，

其中所述電子光學柱進一步包括至少一個電子檢測器，其中所述電子束通道經配置以將所述電子束引導到所述至少一個電子檢測器。

2.根據權利要求1所述的系統，其中所述上部偏轉器由兩個或多于兩個板構成，其中所述下部偏轉器由兩個或多于兩個板構成。

3.根據權利要求2所述的系統，其中所述多個電子光學柱中的所述至少一些電子光學柱包括：

第一電子光學柱，其包括第一偏轉器層，所述第一偏轉器層包含第一上部偏轉器及第一下部偏轉器；及

額外電子光學柱，其包括額外偏轉器層，所述額外偏轉器層包含額外上部偏轉器及額外下部偏轉器，

其中所述第一上部偏轉器的所述板中的至少一些板耦合到所述額外上部偏轉器的對應板且耦合到第一放大器，

其中所述第一下部偏轉器的所述板中的至少一些板耦合到所述額外下部偏轉器的對應板且耦合到額外放大器。

4.根據權利要求1所述的系統，其中所述上部偏轉器及所述下部偏轉器是八極束偏轉器。

5.根據權利要求1所述的系統，其中所述上部偏轉器及所述下部偏轉器執行動態雙偏轉或動態消像散中的至少一者。

6.根據權利要求1所述的系統，其中所述上部修整偏轉器由兩個或多于兩個板構成，其中所述下部修整偏轉器由兩個或多于兩個板構成。

7.根據權利要求6所述的系統，其中所述上部修整偏轉器的所述板中的至少一些板耦合到個別放大器。

8.根據權利要求6所述的系統，其中所述下部修整偏轉器的所述板中的至少一些板耦合到個別放大器。

9.根據權利要求1所述的系統，其中所述上部修整偏轉器及所述下部修整偏轉器是八極束偏轉器。

10.根據權利要求1所述的系統，其中所述上部修整偏轉器及所述下部修整偏轉器執行靜態偏轉、靜態消像散、動態雙偏轉或動態消像散中的至少一者。

11.根據權利要求1所述的系統，其中所述多個電子光學元件經布置使得所述初級電子束被引導穿過所述上部偏轉器、所述上部修整偏轉器、所述下部修整偏轉器及所述下部偏轉器。

12.根據權利要求1所述的系統，其中所述多個電子光學元件經布置使得所述電子束被引導穿過所述下部偏轉器、所述下部修整偏轉器、所述上部修整偏轉器及所述上部偏轉器。

13.根據權利要求1所述的系統，其中所述多個電子光學元件包括一或多個物鏡。

14.根據權利要求1所述的系統，其中所述多個電子光學元件經布置以形成錐形電子束通道。

15.根據權利要求14所述的系統，其中所述錐形電子束通道是經由所述多個電子光學元件中的至少一個電子光學元件中的錐形開口形成。