[發明專利]固化膜形成用組合物、取向材及相位差材

在審

• 申請號: 201980027829.1
• 申請日: 2019-03-26
• 公開（公告）號: CN112020663A
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發明（設計）人: 伊藤潤;西村直也
• 申請（專利權）人: 日產化學株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02F1/13363
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 馬妮楠;段承恩

1.一種固化膜形成用組合物，其含有：

(A)成分：具有光取向性基和熱交聯性基的低分子化合物或具有光取向性基和熱交聯性基的聚合物；

(B)成分：交聯劑；

(C)成分：具有羥基、和包含C＝C雙鍵的聚合性基的聚合物；以及

(D)成分：交聯催化劑。

2.根據權利要求1所述的固化膜形成用組合物，(A)成分的光取向性基為具有能夠進行光二聚化或光異構化的結構的官能團。

3.根據權利要求1或2所述的固化膜形成用組合物，(A)成分的光取向性基為肉桂酰基。

4.根據權利要求1或2所述的固化膜形成用組合物，(A)成分的光取向性基為具有偶氮苯結構的基團。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的固化膜形成用組合物，其進一步含有(E)成分：具有選自羥基、羧基、酰胺基、氨基和烷氧基甲硅烷基中的至少一個基團的聚合物。

6.根據權利要求1～5中任一項所述的固化膜形成用組合物，作為(C)成分的聚合物包含具有羥基的結構單元和具有包含C＝C雙鍵的聚合性基的結構單元，該具有羥基的結構單元的比例相對于該聚合物的全部結構單元100摩爾％為20摩爾％以上，并且該具有包含C＝C雙鍵的聚合性基的結構單元的比例相對于該聚合物的全部結構單元100％為20摩爾％以上。

7.根據權利要求1～6中任一項所述的固化膜形成用組合物，作為(A)成分的低分子化合物與作為(C)成分的聚合物的含有比以質量比計為5:95～60:40。

8.根據權利要求1～6中任一項所述的固化膜形成用組合物，作為(A)成分的聚合物與作為(C)成分的聚合物的含有比以質量比計為5:95～90:10。

9.根據權利要求1～8中任一項所述的固化膜形成用組合物，基于(A)成分和(C)成分的合計量100質量份，含有5質量份～500質量份的(B)成分。

10.一種固化膜，其由權利要求1～9中任一項所述的固化膜形成用組合物獲得。

11.一種光學膜，其具有權利要求10所述的固化膜。

12.一種取向材，其使用權利要求10所述的固化膜而制成。

13.一種相位差材，其使用權利要求10所述的固化膜而制成。