[發明專利]成膜裝置和成膜方法

在審

• 申請號: 201980027716.1
• 申請日: 2019-03-20
• 公開（公告）號: CN112020573A
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發明（設計）人: 品田正人;戶島宏至;愛因斯坦·諾埃爾·阿巴拉
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;H01L21/68
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種成膜裝置，其中，

該成膜裝置具有：

處理腔室，其限定對基板進行成膜處理的處理空間；

靶保持部，其在所述處理空間保持用于發射濺射粒子的靶；

濺射粒子發射單元，其從被所述靶保持部保持的靶發射濺射粒子；

濺射粒子遮蔽板，其具有供發射出的所述濺射粒子穿過的穿過孔；

遮蔽構件，其隔著所述處理空間的所述濺射粒子遮蔽板設于與所述靶保持部相反的一側，所述遮蔽構件設為能夠遮蔽所述穿過孔；

移動機構，其使所述遮蔽構件沿水平方向移動；以及

控制部，其對所述濺射粒子發射單元和所述移動機構進行控制，

所述遮蔽構件具有載置基板的載置部，

所述控制部一邊利用所述移動機構將在所述載置部載置有基板的所述遮蔽構件控制為沿水平方向的一個方向移動，一邊使所述濺射粒子發射單元從所述靶發射濺射粒子，

穿過了所述穿過孔的濺射粒子沉積在所述載置部上的基板而成膜。

2.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述載置部具有支承基板的多個基板支承銷。

3.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述穿過孔呈狹縫狀，所述移動機構使所述遮蔽構件沿與所述穿過孔交叉的一個方向移動。

4.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述移動機構使所述遮蔽構件轉動。

5.根據權利要求4所述的成膜裝置，其中，

所述遮蔽構件具有使基板旋轉的轉臺，在利用所述移動機構使所述遮蔽構件轉動時，利用所述轉臺使基板旋轉。

6.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述移動機構使所述遮蔽構件直線移動。

7.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述遮蔽構件具有與載置基板的所述載置部獨立的、用于遮蔽所述穿過孔的遮蔽部。

8.根據權利要求1所述的成膜裝置，其中，

所述遮蔽構件以上下兩層的方式設有能夠獨立地移動的第1構件和第2構件，所述第1構件具有所述載置部，所述第2構件具有其他的功能。

9.根據權利要求8所述的成膜裝置，其中，

以所述第1構件為下層、所述第2構件為上層的方式設置，所述第2構件具有對在所述第1構件的所述載置部載置的基板進行加熱的加熱器。

10.根據權利要求8所述的成膜裝置，其中，

所述第2構件具有遮蔽所述穿過孔的遮蔽功能。

11.一種成膜方法，其利用成膜裝置成膜預定的膜，其中，

所述成膜裝置具有：

處理腔室，其限定對基板進行成膜處理的處理空間；

靶保持部，其在所述處理空間保持用于發射濺射粒子的靶；

濺射粒子發射單元，其從被所述靶保持部保持的靶發射濺射粒子；

濺射粒子遮蔽板，其具有供發射出的所述濺射粒子穿過的穿過孔；

遮蔽構件，其隔著所述處理空間的所述濺射粒子遮蔽板設于與所述靶保持部相反的一側，所述遮蔽構件設為能夠遮蔽所述穿過孔；以及

移動機構，其使所述遮蔽構件沿水平方向移動，

所述遮蔽構件具有載置基板的載置部，

所述成膜方法具有以下內容：

在所述遮蔽構件的所述載置部載置基板；以及

一邊利用所述移動機構使在所述載置部載置有基板的所述遮蔽構件沿水平方向的一個方向移動，一邊使所述濺射粒子發射單元從所述靶發射濺射粒子，而使穿過了所述穿過孔的濺射粒子沉積在所述載置部上的基板。

12.根據權利要求11所述的成膜方法，其中，

所述成膜方法還具有以下內容：在載置所述基板之前，以使所述遮蔽構件位于遮蔽所述穿過孔的位置的狀態，從所述靶發射所述濺射粒子而進行預濺射處理。