[發明專利]用于填充帶腔包裝的設備、系統和方法

有效

• 申請號: 201980026712.1
• 申請日: 2019-04-17
• 公開（公告）號: CN111989266B
• 公開（公告）日: 2022-05-27
• 發明（設計）人: 托馬斯·約翰森;卡爾·亨利;喬納森·沃頓;埃迪·A·羅曼
• 申請（專利權）人: 丘奇和德懷特有限公司
• 主分類號: B65B1/02
• 分類號: B65B1/02;B05B1/00;B05B1/04;B05B1/14;B05B1/16;B05B1/22;B05B13/00
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 李金剛;梁曉廣

1.一種用于填充帶腔包裝的設備，所述設備包括：

分配噴嘴，所述分配噴嘴限定從第一端延伸到第二端的縱向開口，所述分配噴嘴的所述第一端接收介質，并且所述分配噴嘴的所述第二端相對于承載機構的機器方向的垂線成角度，所述分配噴嘴的所述第二端布置成與沿所述機器方向行進的所述承載機構相鄰，所述承載機構具有圍繞所述承載機構的表面限定的一個或多個帶腔凹部，所述分配噴嘴被構造成用以將從所述第一端通過所述縱向開口接收并從所述第二端離開的一定量的介質分配到圍繞所述承載機構的所述表面限定的所述一個或多個帶腔凹部中；

殼體，所述殼體能夠圍繞所述第二端附接到所述分配噴嘴，所述殼體限定背離所述分配噴嘴延伸并與所述承載機構相鄰的底表面；以及

至少一個擦拭材料，所述至少一個擦拭材料布置成圍繞所述殼體的所述底表面限定具有朝向所述機器方向的頂點的角，所述至少一個擦拭材料的所述角被構造成用以將從所述分配噴嘴的所述第二端分配出但未引入到所述一個或多個帶腔凹部中的任意量的介質引入到所述一個或多個帶腔凹部中。

2.根據權利要求1所述的設備，其中，所述分配噴嘴的所述第二端和所述殼體的所述底表面均被輪廓化，以匹配所述承載機構的所述表面的輪廓。

3.根據權利要求1所述的設備，其中，所述承載機構包括具有圓柱形表面的轉筒，或者所述承載機構包括具有平坦表面的平板輸送機。

4.根據權利要求3所述的設備，其中，所述分配噴嘴的所述第二端布置成相對于所述轉筒的中心在約10度至約95度之間。

5.根據權利要求1所述的設備，其中，所述分配噴嘴的所述第二端相對于所述承載機構的所述機器方向的垂線成約20度至約80度之間的角度。

6.根據權利要求1所述的設備，其中，所述至少一個擦拭材料布置成圍繞所述殼體的所述底表面限定具有朝向所述機器方向的頂點的角，所述角在約15度至約45度之間。

7.根據權利要求6所述的設備，其中，存在同心布置的三個擦拭材料，所述同心布置的三個擦拭材料均圍繞所述殼體的所述底表面限定具有朝向所述機器方向的頂點的角，每個角為約30度。

8.根據權利要求1所述的設備，還包括舌部，所述舌部從所述分配噴嘴的所述第二端與所述殼體相背地延伸，所述舌部被輪廓化以匹配所述承載機構的所述表面的輪廓。

9.根據權利要求1所述的設備，其中，所述分配噴嘴的所述第二端包括彈性材料，所述彈性材料被構造成用以與所述承載機構直接相互作用，以便將所述一定量的介質引入到圍繞所述承載機構的所述表面限定的所述一個或多個帶腔凹部中。

10.一種用于填充帶腔包裝的系統，所述系統包括：

承載機構，所述承載機構沿機器方向行進，并且具有圍繞所述承載機構的表面限定的一個或多個帶腔凹部；以及

分配設備，所述分配設備包括：

分配噴嘴，所述分配噴嘴限定從第一端延伸到第二端的縱向開口，所述分配噴嘴的所述第一端接收介質，并且所述分配噴嘴的所述第二端相對于所述機器方向的垂線成角度，所述分配噴嘴的所述第二端布置成與所述承載機構相鄰，所述分配噴嘴被構造成用以將從所述第一端通過所述縱向開口接收并從所述第二端離開的一定量的介質分配到圍繞所述承載機構的所述表面限定的所述一個或多個帶腔凹部中；

殼體，所述殼體能夠圍繞所述第二端附接到所述分配噴嘴，所述殼體限定背離所述分配噴嘴延伸并與所述承載機構相鄰的底表面；以及

至少一個擦拭材料，所述至少一個擦拭材料布置成圍繞所述殼體的所述底表面限定具有朝向所述機器方向的頂點的角，所述至少一個擦拭材料的所述角被構造成用以將從所述分配噴嘴的所述第二端分配出但未引入到所述一個或多個帶腔凹部中的任意量的介質引入到所述一個或多個帶腔凹部中。