[發明專利]競技用義足的足底在審
| 申請號： | 201980026449.6 | 申請日： | 2019-04-17 |
| 公開（公告）號： | CN112040911A | 公開（公告）日： | 2020-12-04 |
| 發明（設計）人： | 糸井大太;佐橋耕平 | 申請（專利權）人： | 株式會社普利司通 |
| 主分類號： | A61F2/60 | 分類號： | A61F2/60 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;張會華 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 競技 用義足 足底 | ||
1.一種競技用義足的足底，該競技用義足具有板簧狀的足部，該足部經由至少1個彎曲部向足尖側延伸，該足底安裝于從所述足尖向所述彎曲部側呈弧狀延伸的著地區域，該競技用義足的足底的特征在于，
該足底具有與所述著地區域的延伸形狀匹配的形狀的底面，該底面的、以穿過穿著有所述競技用義足的穿著者的直立狀態下該底面與路面接觸的接觸點且沿所述足部的寬度方向延伸的線為分界的彎曲部側區域具有比所述彎曲部側區域以外的區域高的排水性能。
2.根據權利要求1所述的競技用義足的足底，其中，
所述底面的除所述彎曲部側區域以外的區域具有比所述彎曲部側區域高的耐磨損性能。
3.根據權利要求1或2所述的競技用義足的足底，其中，
在所述底面的除所述彎曲部側區域以外的區域中，從所述足尖起以恒定的曲率半徑連續的部分具有比余下的部分高的耐磨損性能。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的競技用義足的足底，其中，
在所述底面的所述彎曲部側區域中，比該區域在所述足部的前后方向上的最大長度的中心靠足尖側的部分具有比余下的部分高的排水性能。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的競技用義足的足底，其中，
在所述底面的所述彎曲部側區域中，比該區域在所述足部的前后方向上的最大長度的中心靠所述彎曲部側的部分的剛度高于余下的部分的剛度。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的競技用義足的足底，其中，
所述底面由多個凹凸構成。
7.根據權利要求6所述的競技用義足的足底，其中，
在所述彎曲部側區域中，比該區域在所述足部的前后方向上的最大長度的中心靠所述彎曲部側的部分在所述足部寬度方向上的邊緣成分大于余下的部分在所述足部寬度方向上的邊緣成分。
8.根據權利要求6或7所述的競技用義足的足底，其中，
在所述彎曲部側區域中，比該區域在所述足部的前后方向上的最大長度的中心靠所述彎曲部側的部分的槽面積比率小于余下的部分的槽面積比率。
9.根據權利要求6至8中任一項所述的競技用義足的足底，其中，
所述彎曲部側區域的、比該區域在所述足部的前后方向上的最大長度的中心靠所述彎曲部側的部分在所述足部寬度方向上的邊緣成分大于所述彎曲部側區域以外的區域在所述足部寬度方向上的邊緣成分。
10.根據權利要求6至9中任一項所述的競技用義足的足底，其中，
所述彎曲部側區域的、比該區域在所述足部的前后方向上的最大長度的中心靠所述彎曲部側的部分的槽面積比率大于所述彎曲部側區域以外的區域的槽面積比率。
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