[發明專利]具有改進的輸入光學器件和組件布置的樣品分析設備在審
| 申請號: | 201980025657.4 | 申請日: | 2019-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN112106171A | 公開(公告)日: | 2020-12-18 |
| 發明(設計)人: | S·尤雷克;K·宏特 | 申請(專利權)人: | 艾德特斯解決方案有限公司 |
| 主分類號: | H01J49/06 | 分類號: | H01J49/06;G01N27/62;H01J49/26;H01J49/22;H01J49/20 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 蔡宗鑫;王瑋 |
| 地址: | 澳大利亞新*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 改進 輸入 光學 器件 組件 布置 樣品 分析 設備 | ||
1.一種樣品分析設備,包括:
離子源,其被配置成從輸入到粒子檢測設備中的樣品產生離子;和
離子檢測器,其具有配置成接收從所述離子源產生的離子的輸入端,
其中,所述樣品分析設備被配置成使得與由所述離子源產生的離子混合并在與所述離子相同的大致方向上流動的污染物被抑制或阻止進入所述檢測器輸入端。
2.根據權利要求1所述的樣品分析設備,包括離子方向改變部件,所述離子方向改變部件被配置成改變由所述離子源產生并在遠離所述離子源的方向上傳送的離子的方向,方向上的所述改變足以將所述離子從所述污染物分離或者至少降低所述離子周圍的空間中所述污染物的濃度。
3.根據權利要求2所述的樣品分析設備,其中,所述離子方向改變部件用于偏轉由所述離子源產生并在遠離所述離子源的方向上傳送的離子的路徑。
4.根據權利要求3所述的樣品分析設備,其中,所述偏轉是由所述離子檢測改變部件周圍的電磁場的建立引起的。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的樣品分析設備,包括污染物流動方向改變部件,所述污染物流動方向改變部件被配置成改變與由所述離子源產生的離子混合的污染物的方向,方向上的所述改變足以使所述離子從載氣流分離。
6.根據權利要求5所述的樣品分析設備,其中,所述污染物流動方向改變部件形成污染物通過的屏障或部分屏障。
7.根據權利要求6所述的樣品分析設備,其中,所述屏障或部分屏障定位在所述離子源和所述檢測器之間,并且所述屏障或部分屏障被配置成允許由所述離子源產生的離子通過但是阻止或抑制污染物通過。
8.根據權利要求6或7所述的樣品分析設備,其中,所述屏障或部分屏障用于將污染物偏轉遠離所述離子檢測器輸入端。
9.根據權利要求6至8中任一項所述的樣品分析設備,其中,所述屏障或部分屏障包括不連續部,所述不連續部被配置成允許由所述離子源產生的離子通過但是阻止或抑制污染物通過。
10.根據權利要求6至9中任一項所述的樣品分析設備,其中,所述屏障或部分屏障基本上專用于允許由所述離子源產生的離子通過但是阻止或抑制污染物通過的目的。
11.根據權利要求6至10中任一項所述的樣品分析設備,包括至少2個、3個或更多個屏障或部分屏障,所述屏障或部分屏障中的每一個處于至少部分地重疊或堆疊的布置中。
12.根據權利要求1至11中任一項所述的樣品分析設備,其中,所述檢測器被配置或定位或定向成使得由所述離子源產生并沿著基本上線性的路徑從所述離子源傳送的離子需要偏離其線性路徑以便進入所述檢測器輸入端。
13.根據權利要求1至12中任一項所述的樣品分析設備,其中,所述檢測器被配置或定位或定向成使得在所述離子源和所述檢測器輸入端之間不建立視線。
14.根據權利要求1至13中任一項所述的樣品分析設備,其中,所述檢測器被配置或定位或定向成使得在所述樣品載氣流的起點和所述檢測器輸入端之間不建立視線。
15.根據權利要求1至14中任一項所述的樣品分析設備,其中,所述檢測器輸入端通常背向所述離子源,或者不大致面向所述離子源。
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