[發明專利]涂層劑、防霧膜、防霧膜的制造方法及層疊體

有效

• 申請號: 201980025542.5
• 申請日: 2019-04-02
• 公開（公告）號: CN111989375B
• 公開（公告）日: 2022-03-01
• 發明（設計）人: 米澤裕之;中道明希;北村拓也;畠中優介
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: C09D183/02
• 分類號: C09D183/02;B05D7/24;B32B27/00;C09D7/20;C09D7/61;C09D7/63;C09D139/06;C09K3/18;G02B1/18
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 張志楠;褚瑤楊

1.一種涂層劑，其包含：由通式(1)表示的化合物的水解物、二氧化硅粒子、沸點為120℃以上的高沸點溶劑及在側鏈上具有吡咯烷酮基的樹脂，

在由所述涂層劑形成的防霧膜內的二氧化硅粒子之間具有空隙，

所述由通式(1)表示的化合物的重均分子量為300～1500的范圍，

通式(1)中，R¹、R²、R³及R⁴分別獨立地表示碳原子數1～6的1價有機基團，n表示1～20的整數。

2.根據權利要求1所述的涂層劑，其還包含金屬螫合物作為縮合催化劑。

3.根據權利要求1或2所述的涂層劑，其中，

在側鏈上具有吡咯烷酮基的所述樹脂為包含源自乙烯基吡咯烷酮的結構單元的樹脂。

4.根據權利要求1或2所述的涂層劑，其中，

在側鏈上具有吡咯烷酮基的所述樹脂為包含源自乙烯基吡咯烷酮的結構單元和源自ClogP值為0.7～3.0的單體的結構單元的樹脂。

5.根據權利要求4所述的涂層劑，其中，

源自ClogP值為0.7～3.0的單體的所述結構單元為源自乙酸乙烯酯的結構單元。

6.根據權利要求1或2所述的涂層劑，其中，

相對于所述涂層劑中所包含的所述二氧化硅粒子的質量，在側鏈上具有吡咯烷酮基的所述樹脂的含量為30質量％～60質量％。

7.根據權利要求1或2所述的涂層劑，其中，

所述二氧化硅粒子的平均一次粒徑為10nm～20nm。

8.根據權利要求1或2所述的涂層劑，其中，

所述二氧化硅粒子相對于總固體成分的含量為45質量％以上。

9.根據權利要求1或2所述的涂層劑，其中，

所述高沸點溶劑的沸點為140℃以上。

10.根據權利要求9所述的涂層劑，其中，

所述高沸點溶劑的沸點為150℃以上。

11.根據權利要求1或2所述的涂層劑，其中，

所述高沸點溶劑為二醇醚系溶劑。

12.根據權利要求1或2所述的涂層劑，其中，

所述高沸點溶劑為具有支鏈烷基的溶劑。

13.根據權利要求1或2所述的涂層劑，其還包含水。

14.根據權利要求1或2所述的涂層劑，其中，

相對于所述涂層劑中所包含的所有溶劑的總質量，所述高沸點溶劑的含量為10質量％～50質量％。

15.一種防霧膜，其是由權利要求1至14中任一項所述的涂層劑形成。

16.一種防霧膜，其包含：由通式(1)表示的化合物的水解物、二氧化硅粒子及在側鏈上具有吡咯烷酮基的樹脂，該防霧膜的霧度為2.0以下，

在所述防霧膜內的二氧化硅粒子之間具有空隙，

所述由通式(1)表示的化合物的重均分子量為300～1500的范圍，

通式(1)中，R¹、R²、R³及R⁴分別獨立地表示碳原子數1～6的1價有機基團，n表示1～20的整數。

17.一種防霧膜的制造方法，其包括：

將權利要求1至14中任一項所述的涂層劑涂布于被涂布材料的工序；及

對所涂布的所述涂層劑進行干燥的工序。