[發明專利]光催化劑轉印膜及其制造方法有效
| 申請號： | 201980025313.3 | 申請日： | 2019-03-26 |
| 公開（公告）號： | CN111971332B | 公開（公告）日： | 2023-02-28 |
| 發明（設計）人： | 湯山昌弘;古館學;井上友博 | 申請（專利權）人： | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號： | C08J7/04 | 分類號： | C08J7/04;C08L23/12;C09D5/00;C09D183/00;C09D7/61;B01J23/14;B01J23/89;B01J35/02;B01J37/02;B05D5/00;B05D7/04;B05D7/24;B32B9/00;B32B27/32 |
| 代理公司： | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人： | 劉強 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光催化劑 轉印膜 及其 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種光催化劑轉印膜，其在用3D激光顯微鏡測定的算術平均粗糙度Ra為0.01μm～1μm的雙向拉伸聚丙烯膜上具有光催化劑層，所述光催化劑層包含含有氧化鈦粒子的光催化劑、作為在有機銨鹽的存在下獲得的四官能性硅化合物的水解縮合物的硅化合物以及表面活性劑。
2.根據權利要求1所述的光催化劑轉印膜，其中，表面活性劑為炔屬表面活性劑。
3.根據權利要求1或2所述的光催化劑轉印膜，其中，光催化劑層的厚度為20～300nm。
4.根據權利要求1或2所述的光催化劑轉印膜，其中，雙向拉伸聚丙烯膜的厚度為12.5～100μm。
5.根據權利要求1或2所述的光催化劑轉印膜，其中，在光催化劑層上進一步層疊有含有硅化合物的保護層。
6.一種光催化劑轉印膜的制造方法，該方法包括：將包含含有氧化鈦粒子的光催化劑、作為在有機銨鹽的存在下獲得的四官能性硅化合物的水解縮合物的硅化合物、表面活性劑以及水性分散介質的光催化劑涂敷液涂布在用3D激光顯微鏡測定的算術平均粗糙度Ra為0.01μm～1μm的雙向拉伸聚丙烯膜上，并進行干燥。
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