[發明專利]光催化劑轉印膜及其制造方法有效
| 申請號： | 201980025265.8 | 申請日： | 2019-03-26 |
| 公開（公告）號： | CN111971331B | 公開（公告）日： | 2023-02-24 |
| 發明（設計）人： | 湯山昌弘;古館學;井上友博 | 申請（專利權）人： | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號： | C08J7/04 | 分類號： | C08J7/04;B01J23/66;B01J23/89;B01J35/02;B01J37/02;B05D5/00;B05D7/00;B05D7/24;C09D183/00;C09D5/14;C09D7/61;C08L67/02;C08L61/28;C08L23/12 |
| 代理公司： | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人： | 劉強 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光催化劑 轉印膜 及其 制造 方法 | ||
1.一種光催化劑轉印膜，其在基膜上具有光催化劑層，所述光催化劑層包含含有氧化鈦粒子的光催化劑、含有抗菌性金屬的合金粒子、作為在有機銨鹽的存在下獲得的四官能性硅化合物的水解縮合物的硅化合物以及表面活性劑。
2.根據權利要求1所述的光催化劑轉印膜，其中，表面活性劑為炔屬表面活性劑。
3.根據權利要求1或2所述的光催化劑轉印膜，其中，含有抗菌性金屬的合金粒子中所含有的抗菌性金屬為選自銀、銅以及鋅中的至少一種金屬。
4.根據權利要求3所述的光催化劑轉印膜，其中，含有抗菌性金屬的合金粒子為至少含有銀的合金粒子。
5.根據權利要求4所述的光催化劑轉印膜，其中，相對于合金粒子的總質量，含有抗菌性金屬的合金粒子中所含有的抗菌性金屬為1～100質量％。
6.根據權利要求1或2所述的光催化劑轉印膜，其中，氧化鈦粒子和含有抗菌性金屬的合金粒子這兩種粒子的混合物的分散粒徑以通過使用激光的動態光散射法測定的體積基準的50％累積分布直徑D50計為5～100nm。
7.根據權利要求1或2所述的光催化劑轉印膜，其中，光催化劑層的厚度為20～300nm。
8.根據權利要求1或2所述的光催化劑轉印膜，其中，基膜的厚度為12.5～100μm。
9.根據權利要求1或2所述的光催化劑轉印膜，其中，在光催化劑層上進一步層疊有含有硅化合物的保護層。
10.一種光催化劑轉印膜的制造方法，該方法包括：將包含含有氧化鈦粒子的光催化劑、含有抗菌性金屬的合金粒子、作為在有機銨鹽的存在下獲得的四官能性硅化合物的水解縮合物的硅化合物、表面活性劑以及水性分散介質的光催化劑涂敷液涂布在基膜上，并進行干燥。
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