[發明專利]透明氧化物層疊膜、透明氧化物層疊膜的制造方法、濺射靶和透明樹脂基板

在審

• 申請號: 201980025233.8
• 申請日: 2019-02-05
• 公開（公告）號: CN111954726A
• 公開（公告）日: 2020-11-17
• 發明（設計）人: 桑原正和;仁藤茂生
• 申請（專利權）人: 住友金屬礦山株式會社
• 主分類號: C23C14/08
• 分類號: C23C14/08;B32B9/00;C23C14/06;C23C14/34
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 陳彥;張默

1.一種透明氧化物層疊膜，其為將含有Zn和Sn的透明氧化物膜層疊多層而成的透明氧化物層疊膜，

具有2層以上Zn與Sn的金屬原子數比Sn/(Zn+Sn)為0.18以上0.29以下的非晶質膜。

2.根據權利要求1所述的透明氧化物層疊膜，其特征在于，所述透明氧化物層疊膜的膜厚為100nm以下。

3.根據權利要求1所述的透明氧化物層疊膜，其特征在于，

至少任一層的透明氧化物膜含有Ta和Ge，

所述Ta與Zn、Sn、Ge的金屬原子數比Ta/(Zn+Sn+Ge+Ta)為0.01以下，

所述Ge與Zn、Sn、Ta的金屬原子數比Ge/(Zn+Sn+Ge+Ta)為0.04以下。

4.根據權利要求1所述的透明氧化物層疊膜，其特征在于，由按照JIS標準的K7129法指定的壓差法得到的水蒸汽透過率在所述透明氧化物層疊膜的總膜厚為50～100nm時為0.0008g/m²/天以下，在所述透明氧化物層疊膜的總膜厚小于50nm時為0.004g/m²/天以下。

5.根據權利要求1所述的透明氧化物層疊膜，其特征在于，由按照JIS標準的K7126法指定的壓差法得到的氧透過率在所述透明氧化物層疊膜的總膜厚為50～100nm時為0.008cc/m²/天/atm以下，在所述透明氧化物層疊膜的總膜厚小于50nm時為0.04cc/m²/天/atm以下。

6.一種濺射靶，其特征在于，是為了通過濺射法形成權利要求1至5中任一項所述的透明氧化物層疊膜而使用的濺射靶，

由Sn-Zn-O系的氧化物燒結體、接合材和背襯板構成，

所述氧化物燒結體所含的Zn與Sn的金屬原子數比Sn/(Zn+Sn)為0.18以上0.29以下。

7.根據權利要求6所述的濺射靶，其特征在于，

所述氧化物燒結體進一步含有Ta和Ge，

所述Ta與Zn、Sn、Ge的金屬原子數比Ta/(Zn+Sn+Ge+Ta)為0.01以下，

所述Ge與Zn、Sn、Ta的金屬原子數比Ge/(Zn+Sn+Ge+Ta)為0.04以下。

8.一種透明氧化物層疊膜的制造方法，其為使用包含Sn-Zn-O系的氧化物燒結體的靶進行濺射的透明氧化物層疊膜的制造方法，

所述靶具有按金屬原子數比計Sn/(Zn+Sn)為0.18以上0.29以下的氧化物燒結體，

通過在成膜時使濺射中斷至少1次，形成具有2層以上非晶質膜的透明氧化物層疊膜。

9.根據權利要求8所述的透明氧化物層疊膜的制造方法，其特征在于，所述透明氧化物層疊膜的膜厚為100nm以下。

10.一種透明樹脂基板，在透明樹脂基材的至少一個面上形成有權利要求1至5中任一項所述的透明氧化物層疊膜。