[發明專利]功率半導體芯片上的材料減少的金屬板在審
| 申請號: | 201980024501.4 | 申請日: | 2019-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN111937127A | 公開(公告)日: | 2020-11-13 |
| 發明(設計)人: | F·莫恩;A·索科洛夫;柳春雷 | 申請(專利權)人: | ABB電網瑞士股份公司 |
| 主分類號: | H01L21/60 | 分類號: | H01L21/60 |
| 代理公司: | 北京市漢坤律師事務所 11602 | 代理人: | 王其文;張濤 |
| 地址: | 瑞士*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 功率 半導體 芯片 材料 減少 金屬板 | ||
1.一種功率半導體模塊(10),所述功率半導體模塊包括:
襯底(12),所述襯底具有金屬化層(18);
功率半導體芯片(14),所述功率半導體芯片被結合到所述襯底(12)的所述金屬化層(18);
金屬板(24),所述金屬板以第一表面與所述襯底(12)相反地結合到所述功率半導體芯片(14),所述金屬板(24)具有中央部分以及邊界,所述中央部分以及所述邊界都結合到所述功率半導體芯片(14);
其中,多個金屬互連元件(32、42)在所述中央部分(34)處結合到所述金屬板(24)的第二表面;
其中,所述金屬板(24)的所述邊界(36)構造成使得與所述金屬板(24)的中央部分(34)相比,所述金屬板(24)在所述邊界(36)處具有更少的每單位面積金屬材料。
2.根據權利要求1所述的功率半導體模塊(10),其中,從所述金屬板(24)的提供所述第二表面的一側去除金屬材料。
3.根據權利要求1或2所述的功率半導體模塊(10),
其中,所述金屬板的所述第一表面覆蓋所述功率半導體芯片(14)的電極(26)的50%以上。
4.根據前述權利要求中任一項所述的功率半導體模塊(10),
其中,所述金屬板(24)的所述邊界(36)比所述金屬板(24)的所述中央部分(34)更薄。
5.根據前述權利要求中任一項所述的功率半導體模塊(10),
其中,所述邊界(36)在所述第二表面中具有凹陷(40')和/或在所述第二表面中具有孔(40)。
6.根據前述權利要求中任一項所述的功率半導體模塊(10),
其中,所述邊界(36)具有通孔(40)。
7.根據前述權利要求中任一項所述的功率半導體模塊(10),
其中,所述金屬板(24)的所述邊界(36)中的至少一個的厚度小于100μm;以及
所述金屬板(24)的所述中央部分(34)的厚度大于30μm。
8.根據前述權利要求中任一項所述的功率半導體模塊(10),
其中,所述金屬板(24)的所述中央部分(34)中的至少一個是平坦的。
9.根據前述權利要求中任一項所述的功率半導體模塊(10),
其中,結合線(32)被結合到所述中央部分(34);和/或
其中,金屬帶(42)被結合到所述中央部分(34)。
10.根據前述權利要求中任一項所述的功率半導體模塊(10),
其中,所述金屬板(24)由Cu制成。
11.一種制造功率半導體模塊(10)的方法,所述方法包括:
將功率半導體芯片(14)結合到襯底(12)的金屬化層(18);
構造金屬板(24)的邊界(36),使得與所述金屬板(24)的中央部分(34)相比,所述金屬板(24)在邊界(36)處具有更少的每單位面積金屬材料;
將所述金屬板(24)以第一表面與襯底(12)相反地結合到所述功率半導體芯片(14),其中,所述中央部分(34)和所述邊界(36)被結合到所述功率半導體芯片(14);
在所述金屬板(24)的所述中央部分(34)處將多個互連元件(32、42)結合到所述金屬板(24)的第二表面。
12.根據權利要求11所述的方法,
其中,利用電化學蝕刻來構造所述金屬板(24)的所述邊界(36)。
13.根據權利要求11或12中任一項所述的方法,
其中,通過沖壓來構造所述金屬板(24)的所述邊界(36)。
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





