[發明專利]用于規劃體積調制弧形輻射治療流程的規劃系統

在審

• 申請號: 201980023002.3
• 申請日: 2019-03-25
• 公開（公告）號: CN111936206A
• 公開（公告）日: 2020-11-13
• 發明（設計）人: H·S·黑澤;T·維克;R·J·威斯;A·A·伊索拉;C·諾伊基興;M·F·巴爾
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10;A61B6/02
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 孟杰雄

1.一種用于規劃體積調制弧形輻射治療流程的規劃系統，其中，所述體積調制弧形輻射治療流程包括旋轉輻射源(2)，所述輻射源被配置為沿著圍繞對象(4)的至少一個弧發射用于處置所述對象(4)的輻射射束(3)，以便在不同處置方向上將所述輻射射束(3)應用到所述對象(4)，其中，所述規劃系統(7)包括：

-序列提供單元(11)，其被配置為提供子弧組的序列，其中，相應子弧組包括所述至少一個弧的若干子弧，所述若干子弧沿著所述至少一個弧均勻地分布，

-處置計劃生成單元(14)，其被配置為通過在所提供的序列中針對每個子弧組順序地確定定義所述輻射射束(3)的性質的處置參數來生成處置計劃。

2.根據權利要求1所述的規劃系統，其中，所述序列提供單元(11)還被配置為提供所述序列，使得指示與針對所述序列中的所有子弧組的相鄰子弧組相對應的輻射射束的射束方向相似性的程度的射束方向相似性量度與針對所述子弧組的另一可能序列的所述射束方向相似性量度相比較減小。

3.根據權利要求1所述的規劃系統，其中，所述規劃系統(7)優選地還包括約束提供單元(12)，所述約束提供單元被配置為提供針對要生成的所述處置計劃的約束，所述約束由輻射治療系統(1)定義，應當利用所述輻射治療系統將所述處置計劃應用到所述對象(4)，其中，所述處置計劃生成單元(14)被配置為在考慮所提供的約束的情況下生成所述處置計劃。

4.根據權利要求1所述的規劃系統，其中，所述規劃系統(7)還包括期望劑量分布提供單元(13)，所述期望劑量分布提供單元被配置為提供所述對象(4)內的期望劑量分布，其中，所述處置計劃生成單元(14)包括要確定的所述處置參數與所述對象(4)內的模擬劑量分布之間的關系，其中，所述處置計劃生成單元(14)被配置為確定所述處置參數，使得指示所述模擬劑量分布與所述期望劑量分布的偏差的偏差量度被最小化。

5.根據權利要求4所述的規劃系統，其中，所述處置計劃生成單元(14)被配置為針對每個子弧組基于針對相應子弧組確定的所述處置參數來確定相應模擬子劑量分布，并且通過將針對所述子弧組確定的所述模擬子劑量分布進行組合來確定所述模擬劑量分布。

6.根據權利要求5所述的規劃系統，其中，所述處置計劃生成單元(14)被配置為在確定所述處置參數并且因此確定針對相應子弧組的模擬子劑量分布時不修改針對其他子弧組確定的所述處置參數中的至少一些。

7.根據權利要求6所述的規劃系統，其中，所述處置計劃生成單元(14)被配置為在確定所述處置參數并且因此確定針對相應子弧組的模擬子劑量分布時不修改針對所述其他子弧組確定的所述處置參數中的第一類，但是修改針對所述其他子弧組確定的所述處置參數中的第二類。

8.根據權利要求7所述的規劃系統(7)，其中，所述輻射源(2)包括準直器，所述準直器具有用于對所述輻射射束(3)進行準直的準直器葉，其中，所述處置參數的所述第一類包括所述準直器葉相對于所述輻射射束(3)的位置，并且處置參數的所述第二類包括所述輻射射束(3)的強度。

9.根據權利要求1所述的規劃系統，其中，所述序列提供單元(11)被配置為提供所述子弧組的序列，使得每個子弧組包括奇數個子弧。

10.根據權利要求1所述的規劃系統，其中，所述至少一個弧大于180度。

11.根據權利要求1所述的規劃系統，其中，所述處置計劃生成單元(14)適于迭代地確定所述處置參數，其中，在迭代步驟中，對所述處置參數的所述確定利用在先前迭代步驟中獲得的所述處置參數開始。

12.根據權利要求11所述的規劃系統，其中，所述序列提供單元(11)被配置為針對不同迭代步驟提供不同序列，其中，所述處置計劃生成單元(14)被配置為在相應迭代步驟中使用針對所述相應迭代步驟提供的所述序列。